A.特許庁は、仮想空間におけるデザイン保護に向け、保護対象を物品に限定しない方向性や画像の用途に着目した類否判断などの新たな方向性の検討を進めています。（第22回・2024年11月時点）
意匠制度見直し、用途に着目した新方針を検討
仮想空間におけるデザインの意匠法による保護に向け、保護対象を物品や建築物に限定しない方向性や、画像の用途・機能に着目した類否判断などの新たな方向性が提示され、検討が進められている。
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意匠制度見直し、8年初めに向け改正を検討
仮想空間でのデザイン権利保護に向け、画像の意匠の保護対象に「仮想物品等の形状等を表した画像」を加える制度改正を検討。実態に即した実施行為や類否判断の在り方についてステークホルダーへのヒアリングを継続し、対応策を精査している。
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意匠制度見直し、27年度2兆円市場向け検討
仮想物品等の形状等を表した画像を意匠法の保護対象とする方向性について、意匠の類否判断や実施行為、クリアランス調査負担の軽減策などの具体的内容を引き続き検討する。
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意匠制度見直し、7年6月目標に類否判断を検討
仮想空間における物品等の形状等を表した画像を保護対象とする「制度的措置の方向性③」について、出願意匠の認定方法や、用途・機能を考慮する「A案」に基づく類否判断の基本的な考え方の検討を進めている。
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意匠制度見直し、30年5千億ドル市場へ検討
仮想空間における3Dモデルの模倣被害へ対応するため、操作・表示画像以外の画像であっても物品等の形状等を表した画像であれば意匠法で保護する方向性（方向性③）について検討を行っている。
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意匠制度見直し、模倣経験32%受け保護を検討
仮想空間における模倣対策として、操作画像・表示画像に該当しないものであっても、物品等の形状等を表した画像であれば、既存の画像の意匠の範囲において保護対象とする「方向性③」について検討を進める。
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意匠制度見直し、仮想空間での保護拡大を検討
現実空間と仮想空間を交錯する知財利用の拡大に伴い、意匠制度見直しの必要性や、現行の意匠保護類型以外の登録可能類型の拡大といった制度的措置の方向性について検討を行っている。
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出典: 特許庁「産業構造審議会 知的財産分科会 意匠制度小委員会」の議事録より自動抽出（2026年7月29日時点）