A.特許庁が、令和7年度の導入に向けて、スタートアップの意匠出願を対象とした審査通知期間を大幅に短縮する早期審査制度を検討しています（第20回・2024年6月時点）。
R7年度に意匠出願の早期審査導入を検討
スタートアップの意匠出願を対象とする早期審査。審査通知までの期間を大幅に短縮することを目指し、令和7年度の導入に向けて検討中。
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スタートアップ向け知財情報を一元的に提供
知財ポータルサイトの運営、冊子発行、IP BASE AWARDを通じた活動の表彰などにより、スタートアップ向けの知財情報発信や関係強化を推進する。令和6年度は対面イベントでの交流促進に注力する。
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海外出願1件につき最大150万円を補助
大学等発スタートアップによる研究成果の社会実装を促進するため、グローバルな事業展開に必要な海外出願経費の1/2（1出願あたり上限150万円）を補助する事業を創設する。
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出典: 特許庁「産業構造審議会 知的財産分科会」の議事録より自動抽出（2025年3月5日時点）