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A.2019年のルネサス那珂工場の線幅は40nm。
経済産業省の発表によると、2019年時点でルネサス那珂工場の半導体製造における線幅は40nmでした。これは、半導体の微細化技術の進展を示す重要な指標です。
出典: 経済産業省『半導体・デジタル産業戦略』2024年6月公表