議事要旨
。
第17回知的財産分科会 議事要旨
1.日時・場所
日時:令和4年3月3日(木曜日)10時00分から12時10分
場所:WEB会議室
2.出席委員
益分科会長、蘆立委員、出雲委員、鬼頭委員、小松委員、設樂委員、杉村委員、田川委員、竹中委員、中村委員、濱口委員、林委員、藤木委員、別所委員、増島委員、御供委員、柳川委員、山田委員
3.議題
出願・審査の現状
財政点検小委員会の活動報告
知財活用アクションプラン(中小企業・スタートアップ版、大学版)の紹介
標準必須特許に係る動向報告
特許情報に基づく競争力分析
来年度に向けて
4.議事内容
事務局より、資料を基に説明をした後、各論点について御議論いただいた。
主な意見は以下のとおり。
(1)中小企業・スタートアップ・大学向け支援について
大学発スタートアップへの支援に期待。効果的なものになるよう、大学へのヒアリングや手続の簡素化、海外出願の中間手続費用の支援などを希望。
ベンチャーキャピタル(VC)への知財専門家派遣調査事業により、VCの能力向上が日本の知財戦略の一翼をになう状態を構築すべく、事業を成長させることを希望。
知財活用アクションプランに期待。支援策の効果を評価するため、売上げや経済の活性化などの効果をKPIとすることを希望。
コロナ禍により中小企業は知財まで考えが回らないのが実情では。プッシュ型支援への注力を希望。
助成金や専門家派遣には期待するが、目先の目標ではなく、民間でも自走できる体制構築を目指すべき。
岸田総理の掲げた成長戦略を踏まえ、スタートアップの支援に徹底的に取り組むべき。
大学知財の流通の促進の観点から、ライセンスオブライト制度の導入を希望。
共有された特許について、企業が利用許諾に応じない場合などに産業利用が阻害されている。特許法73条3項の要件緩和や、契約で大学との共有については企業が実施していない場合は許諾したものとみなすとすることなどを希望。
特許法73条3項の改正は、大企業と中小企業との共有などにおいて別の問題が生じる可能性もある。産業界、関連団体等の意見を聴取するなど、慎重な議論が必要。
大学の発明は教員の給与及び施設に公的資金が利用されているため、通常の発明とは異なる扱いをする必要があるのではないか。
大学では事業化に向けた意識が低い。事業化意欲を変えるためにも、大学内での教員の評価基準の変更や研究費受け入れの柔軟化が必要ではないか。
大学では社会実装の意識は広まっている。研究者が権利化に携わるには限界があるため、研究者を支援する体制の構築が必要。
スタートアップへの支援には商標もハイライトすることを希望。
モデル契約書は有益だが、新しい技術分野では今までにない形で進めていく必要があるにも関わらず、こうしたモデルからずれたことを大学はやりにくいという事情も考慮頂きたい。
(2)標準必須特許に係る動向報告について
誠実交渉指針が権利者と実施者のバランスをとった規範になることを危惧。実施者の多い我が国の産業の利益にかなう対応を希望。
たとえ日本で実施者に有利な制度をつくっても、訴訟が欧州などで提起されることになれば制度そのものの意義がなくなってしまう。
標準必須特許のライセンスはグローバルに行われるため、グローバルな流れに乖離するメッセージは、それに依拠した企業のリスクを増幅させかねない。政府としてメッセージを出す場合には慎重になるべき。特定の企業、業界だけを利するような発言は受け入れられにくい。社会やイノベーションを強く意識して目指すべきものを発言するのが重要。
標準必須特許のライセンス交渉に関する手引きの改訂について、ベストエフォートで進めることを希望。
(3)特許情報に基づく競争力分析について
日本の特許の価値が低いとされているが、ロイヤルティ、ライセンス収入は日本もアメリカも下がっていないことからすると、価値評価が適切に反映されているのか疑問。
グリーントランスフォーメーション(GX)は日本の強みである。中小企業・スタートアップ・大学を含め、技術開発が促進されるよう施策を強化することを希望。
特許を手放すマインドは重要だが、海外では特許の流通市場が発達しているという説明は一面的ではないか。知財戦略のブラッシュアップが重要。
カーボンニュートラル関連技術は個社で実施できないテーマ。共創が重要であり、技術動向調査で扱う際にはコンソーシアムなどの知財戦略が浮き彫りになるような整理が良いのではないか。
(4)その他
技術移転についての日本の基本的な戦略が見えにくく、その点が懸念。
IPランドスケープは戦略に関わるところなので、経営層による座談会では率直な意見が聞けない可能性がある点が懸念。
審査に比べ、審判合議体との連絡に時間がかかっている。制約は理解するが、WEB等の活用等の体制拡充を含めた対応を希望。
[更新日 2022年3月14日]
お問い合わせ
特許庁総務部企画調査課
電話:03-3581-1101 内線2152
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資料1
産業構造審議会 第17回知的財産分科会
議事次第
日 時:令和4年3月3日(木)10時~12時
会 場: Teams会議室
(議事次第)
1. 開会
2. 出願・審査の現状
3. 財政点検小委員会の活動報告
4. 知財活用アクションプラン(中小企業・スタートアップ版、大学版)の
紹介
5. 標準必須特許に係る動向報告
6. 特許情報に基づく競争力分析
(1)特許情報に基づく技術的指標の分析
(2)特許出願技術動向調査の今後の方向性
7. 来年度に向けて
(1)実施庁目標
(2)来年度の新規・拡充事業
8. 自由討議
9. 閉会
(配付資料)
議事次第
資料1:委員名簿
資料2:出願・審査の現状
資料3:財政点検小委員会の活動報告
資料4:知財活用アクションプラン(中小企業・スタートアップ版、大学
版)の紹介
資料5:標準必須特許に係る動向報告
資料6:特許情報に基づく競争力分析
資料7:来年度に向けて
参考資料1:各小委員会の活動
資料2
資料1
令 和 4 年 3 月 3 日
第17回知的財産分科会
産業構造審議会 知的財産分科会
委員名簿
蘆立 順美
東北大学大学院法学研究科 教授
出雲 充
株式会社ユーグレナ 代表取締役社長
鬼頭 雅弘
名古屋大学学術研究・産学官連携推進本部 知財・技術移転部門長/教授
小松 百合弥
IA パートナーズ株式会社
設樂 隆一
創英国際特許法律事務所 会長 弁護士
杉村 純子
プロメテ国際特許事務所 代表弁理士
田川 欣哉
Takram Japan 株式会社 代表取締役
マネージングディレクター
/英ロイヤル・カレッジ・オブ・アート名誉フェロー
竹中 俊子
ワシントン大学ロースクール-慶應義塾大学大学院法務研究科 教授
田村 善之
東京大学大学院法学政治学研究科 教授
冨山 和彦
株式会社経営共創基盤
中村 栄
旭化成株式会社 研究・開発本部 理事・知的財産部長
IGPI グループ会長
/シニアフェロー
濵口 道成
国立研究開発法人 科学技術振興機構 理事長
林
株式会社ロフトワーク 取締役会長
千晶
藤木 実
株式会社 IP Bridge 代表取締役 CEO
別所 弘和
本田技研工業株式会社知的財産・標準化統括部 統括部長
会長 益
一哉
東京工業大学 学長
増島 雅和
森・濱田松本法律事務所 パートナー弁護士
松山 智恵
TMI総合法律事務所 パートナー弁護士
御供 俊元
ソニーグループ株式会社 常務
柳川 範之
東京大学大学院経済学研究科 教授
山田 理恵
東北電子産業株式会社 代表取締役社長
(敬称略,五十音順)
資料3
資料2
出願・審査の現状
産業構造審議会 第17回知的財産分科会
令和4年3月3日
【特許】直近の出願動向
特許出願(1~11月分)は、2021年は回復の傾向。
特許の出願審査請求の件数(1~11月分)は、2021年に大きな改善。
PCT出願(1~11月分)は、2021年も依然として減少。
特許関連件数の推移
2018年
【特許出願件数】
【出願審査請求件数】
【PCT出願件数】
累計
累計
累計
1-11月
313,567 285,126
1-11月
234,309 214,616
-2.1%
2019年
307,969 279,157
288,472 261,437
235,182 214,385
-
261,815
5.9%
51,652
46,930
-5.0%
-1.5%
232,215 211,194
0.1%
2021年
44,329
-0.1%
-6.3%
2020年
48,630
1-11月
49,314
44,578
-1.3%
4.1%
-
219,761
-
44,016
1
【意匠・商標】直近の出願動向
意匠出願(1~11月分)は、2021年は増加の傾向。
商標出願(1~11月分)は、2021年に回復の傾向。
商標登録出願件数の推移
意匠登録出願件数の推移
2018年
累計
1-11月
31,406
28,523
2018年
累計
1-11月
184,483
166,087
0.2%
2019年
31,489
28,586
2.4%
2019年
190,773
170,156
-2.8%
0.5%
2020年
31,752
28,724
2020年
181,072
165,343
2.2%
2021年
-
29,357
1.8%
2021年
-
168,386
2
【特許】日米欧中韓の出願件数の推移
中国における特許出願件数が2019年に鈍化したものの、2020年には再度増加。
日米欧中韓における特許出願件数の推移
180(万件)
160
140
120
100
80
60
40
20
0
CNIPA(中国)
USPTO(米国)
JPO(日本)
KIPO(韓国)
EPO(欧州)
149.7
59.7
28.8
22.6
18.0
2011 2012 2013 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020(出願年)
3
【特許】出願人居住国別のPCT出願件数の推移
中国におけるPCT出願件数が大きく増加している。
出願人居住国別のPCT出願件数の推移
(万件)
8.0
6.9
7.0
6.1
6.0
3.0
5.0
欧州
韓国
中国
日本
5.1
米国
2.1
2.0
1.0
0.0
6.0
5.8
5.0
4.0
7.0
2.0
2011 2012 2013 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021 (出願年)
*2021年の件数は暫定値。2021年の欧州の件数は公表されていない。
4
【意匠】日米欧中韓の出願件数の推移
日本における意匠の出願件数は、他庁に比べ少ない傾向。
日米欧中韓における意匠登録出願件数の推移
100(万件)
80
CNIPA(中国)
KIPO(韓国)
JPO(日本)
EUIPO(欧州)
USPTO(米国)
40.0
77.0
60
40
10
20
11.6
7.2
4.9
3.2
0
0.0
2011 2012 2013 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020(出願年)
5
【商標】日米欧中韓の出願件数の推移
2020年における米国、中国における商標登録出願は、大きく伸びている。
日米欧中韓における商標登録出願件数の推移
(万件:CNIPA(中国)以外)
(区分:CNIPA(中国))
80
934.8
70
60
1,000[万]
USPTO(米国)
KIPO(韓国)
900
JPO(日本)
EUIPO(欧州)
800
CNIPA(中国)
700
50
66.1
40
25.8
30
18.1
600
500
400
300
20
200
10
17.7
100
0
0
2011
2012
2013
2014
2015
2016
2017
2018
2019
2020
(出願年)
6
【特許】審査の現状
JPOの2023年度目標は、一次審査期間は平均10ヶ月以内、権利化までの期間は平均14ヶ月
以内。
併せて審査の質の向上に取り組んでいる。
一次審査期間と権利化までの期間
特許審査の質についてのユーザー評価
特許審査の質についてのユーザー評価
ユーザー評価調査(特許審査全般の質についての評価)
2019年
一次審査期間
権利化までの期間
2012年度
1.4% 30.2%
2013年度
1.5%
43.5%
47.5%
7.3% 0.2%
2014年度
2.7%
44.4%
44.0%
8.4% 0.5%
2015年度
3.8%
50.5%
39.4%
6.2% 0.2%
56.6%
11.3% 0.5%
日本
9.5ヶ月
14.3ヶ月
米国
13.3ヶ月
21.8ヶ月
2016年度
4.2%
52.8%
37.0%
5.7% 0.3%
欧州
5.5ヶ月*
28.1ヶ月
2017年度
5.3%
53.0%
35.2%
6.2% 0.3%
2018年度
7.4%
32.1%
4.9% 0.7%
中国
14.9ヶ月
22.2ヶ月
2019年度
6.5%
韓国
10.8ヶ月
15.6ヶ月
2020年度
9.1%
55.2%
33.0%
2.4% 0.3%
2021年度
8.4%
54.6%
32.0%
3.7% 1.2%
満足
比較的満足
*出願日から特許性に関する見解を伴う拡張欧州調査報告の発行までの期間
54.8%
50.7%
36.5%
普通
5.8% 0.5%
比較的不満
不満
(出典)特許行政年次報告書2021年版
7
【意匠】審査の現状
バッチでの審査を年間2サイクル行っており、平均一次審査期間は6~7ヶ月で推移。
ユーザーによる意匠審査の質に関する評価の調査を2015年度から実施。
意匠審査の質全般について、「満足」と「比較的満足」を合わせた上位評価の割合は、
67.7%。
(
月
)
意匠審査全般の質(全体評価)
平均一次審査期間
(令和3年度ユーザー評価調査)
6.4
6.2
6
6.2
6.2
6.1
6.1
6.0
5.9
5.8
5.6
5.4
5.2
5
平均一次審査期間
2015 2016 2017 2018 2019 2020 (年)
6.1
6.2
5.9
6.1
6.0
6.2
8
【商標】審査の現状
近年の出願増加の影響により、一次審査までの期間及び権利化までの期間は長期化。
2022年度末に一次審査までの期間を6.5ヶ月、権利化までの期間を8ヶ月とする政府目標の
達成に向けて、審査期間は徐々に短縮。
商標審査に関する全体としての質の評価において、「普通」以上の評価の割合は91.7%で
あり、そのうち、肯定的な評価(「満足」と「比較的満足」の評価)の割合は49.9%で
あった。
商標審査の
平均一次審査・権利化までの期間の推移
商標審査の質全般の評価
(月)
12.0
9.3
10.0
7.7
8.0
9.9
6.8
6.0
5.8
6.3
4.0
4.1
4.3
10
8
7.9
6.0
2.0
5:満足
2:比較的不満
10.9 11.2
4.9
6.5
平成27年度
5.6%
平成28年度
6.7%
4:比較的満足
1:不満
42.1%
3:普通
38.3%
11.7% 2.3%
43.8%
43.5%
4.6% 1.5%
平成29年度
5.6%
42.7%
44.5%
6.4%0.8%
平成30年度
8.0%
39.7%
45.3%
6.7% 0.3%
令和元年度
5.0%
令和2年度
6.9%
40.8%
43.6%
8.1% 0.6%
令和3年度
8.4%
41.5%
41.8%
7.8% 0.5%
一次審査期間
権利化までの期間
37.2%
48.0%
9.0% 0.8%
0.0
2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021 2022 (年度)
※2020年度までは年度平均、2022年度は年度末。
9
資料4
資料3
財政点検小委員会の活動報告
産業構造審議会 第17回知的財産分科会
令和4年3月3日
開催実績
第1回(令和3年5月24日)
特許特会の財政運営について
第2回(令和3年6月14日)
特許特会の財政運営について
第3回(令和3年11月5日)
特許特別会計の財政運営について
1
歳出歳入、剰余金の推移
予算
(R4は予算案)
決算
2,200
歳入(前年度剰余金除く)
2,163
歳出
2,000
機械化庁費
中小企業減免拡充・
審査請求料引き上げ
剰余金
1,800
・特許審査請求料を引き上げ
・特許出願料・特許料を引き下げ
1,600
各種料金の引き上げ
【特許料、商標登録料、
国際出願出願手数料等】
1,746
1,582
各種料金の引き下げ
1,548
1,569
1,514
【特許出願料・審査請求料・特許料、商標出願料
・登録料、意匠登録料等】
1,489
1,375
1,306
1,242
【億円】
1,227
1,190
1,200
1,541
1,493
1,454
1,353
1,400
※繰越20億含む
1,144
1,277
1,182
1,049
1,040
1,003
1,000
901
934
800
685
600
庁舎改修による歳出増(~令和4年度)
409
400
357
システム最適化計画による歳出増(~令和8年)
192
200
任期付審査官(約500名)採用
0
H14fy H15fy H16fy
H17fy H18fy H19fy H20fy H21fy H22fy H23fy H24fy H25fy H26fy H27fy H28fy H29fy
※令和4年度の歳入は料金値上げ反映済(点線は、参考まで値上げ前の歳入額での剰余金)
なお、令和5年度以降は、庁舎改修が概ね終了し100億円程度の歳出減となる見込み。
H30fy
R1fy
R2fy
R3fy
R4fy
必要な増収額の検討(第2回小委員会までの御議論)
①剰余金はリスクバッファーとして最低400億円(=3か月分の経費(米・
豪と同様))、
②投資資金は2030年代半ばまでに1400億円、
それぞれ必要なことを確認していただいたところ
“必要な増収額”として算出した150億円を値上げで確保すると仮定し、6通りの
シナリオ(出願件数(高・中・低)×物価上昇率(A:成長実現ケース・B:現状並
み))でシミュレーションを行い、検討いただいた。
財政点検小委の結論:
「低位シナリオでも年間150億円増収となる値上げにより、
400億円程度の剰余金が当面確保できるようにした上で、
必要な投資資金が確保できるか推移を見ることが妥当」
3
料金改定案の策定
基本的考え方(年間150億増収となる値上げの具体的内訳)
特許・商標の「権利化後の料金」の値上げで不足分を補う。
ただし、(大幅な赤字の)国際特許出願(PCT)手数料は、実費との乖離を縮小する。
値上げ後も、欧米以下の水準を維持。
主たる料金について、出願料など「権利化前の料金」や、意匠関係料金など、法
改正で上限を変更しなかった料金は、改定しない。
料金
増収額
(年平均@低位シナリオ)
特許料
+105億円
商標登録料・更新料
+14億円
PCT手数料
+36億円
合計
+155億円
4
改定後料金(特許・実用新案)
根拠条項
特許
改定後
出願料
特許法別表中第1号
14,000円
14,000円
審査請求料
特許法別表中第9号
138,000円
+請求項数×4,000円
138,000円
+請求項数×4,000円
毎年2,100円
+請求項数×200円
毎年4,300円
+請求項数×300円
毎年6,400円
+請求項数×500円
毎年10,300円
+請求項数×800円
毎年19,300円
+請求項数×1,500円
毎年24,800円
+請求項数×1,900円
毎年55,400円
+請求項数×4,300円
毎年59,400円
+請求項数×4,600円
特許料
(第1年から第3年まで)
特許料
(第4年から第6年まで)
特許料
(第7年から第9年まで)
特許料
(第10年から第25年まで)
出願料
技術評価請求料
実用
新案
改定前(現行)
※登録料
(第1年から第3年まで)
※登録料
(第4年から第6年まで)
※登録料
(第7年から第10年まで)
特許法第107条第1項
実用新案法別表中第1号 14,000円
14,000円
42,000円
42,000円
+請求項数×1,000円
毎年2,100円
+請求項数×100円
毎年2,100円
+請求項数×100円
実用新案法第31条第1項 +請求項数×300円
毎年6,100円
毎年6,100円
+請求項数×300円
毎年18,100円
+請求項数×900円
毎年18,100円
+請求項数×900円
実用新案法別表中第5号 +請求項数×1,000円
5
改定後料金(意匠・商標)
根拠条項
出願料
意匠
商標
意匠法別表中第1号
改定前(現行)
改正後
16,000円
16,000円
毎年8,500円
毎年8,500円
毎年16,900円
毎年16,900円
登録料
(第1年から第3年まで)
登録料
(第4年から第25年まで)
意匠法第42条第1項
出願料
商標法別表中第1号
3,400円
+区分数×8,600円
3,400円
+区分数×8,600円
防護標章登録出願又は防護標章
登録に基づく権利の存続期間更新
登録出願
商標法別表中第2号
6,800円
+区分数×17,200円
6,800円
+区分数×17,200円
登録料
商標法第40条第1項
区分数×28,200円
区分数×32,900円
商標法第41条の2第1項 区分数×16,400円
区分数×17,200円
登録料(分納額)
更新登録申請
商標法第40条第2項
区分数×38,800円
区分数×43,600円
更新登録申請(分納額)
商標法第41条の2第7項 区分数×22,600円
区分数×22,800円
防護標章登録料
商標法第65条の7第1項 区分数×28,200円
区分数×32,900円
防護標章更新登録料
商標法第65条の7第2項 区分数×33,400円
区分数×37,500円
6
改定後料金(国際出願関係)
根拠条項
(特許協力条約に基づく
国際出願等に関する法律)
PCT
送付手数料+調査手数料
(日本語)
送付手数料+調査手数料
(英語)
第18条第2項表1の項
送付手数料
第18条第2項表2の項
国際調査の追加手数料(日本語)
国際調査の追加手数料(英語)
予備審査手数料(日本語)
予備審査手数料(英語)
商標
改正後
80,000円
160,000円
166,000円
186,000円
10,000円
17,000円
第8条第4項第1号
60,000円(1発明毎)
105,000円(1発明毎)
第8条第4項第2号
126,000円(1発明毎)
168,000円(1発明毎)
26,000円
34,000円
58,000円
69,000円
第18条第2項表3の項
予備審査の追加手数料(日本語)
第12条第3項第1号
15,000円(1発明毎)
28,000円(1発明毎)
予備審査の追加手数料(英語)
第12条第3項第2号
34,000円(1発明毎)
45,000円(1発明毎)
根拠条項
意匠
改定前(現行)
国際意匠登録出願の個別指定手数料
(出願料・登録料相当分)
国際意匠登録出願の個別指定手数料
(更新登録料相当分)
国際登録に基づく商標権の
個別指定手数料(出願料相当分)
国際登録に基づく商標権の
個別指定手数料(登録料相当分)
国際登録に基づく商標権の
個別指定手数料(更新登録料相当分)
改定前(現行)
改正後
意匠法第60条の21第1項 74,600円
74,600円
意匠法第60条の21第2項 84,500円
84,500円
商標法第68条の30
第1項第1号
商標法第68条の30
第1項第2号
2,700円
+(区分数×8,600円)
2,700円
+(区分数×8,600円)
区分数×28,200円
区分数×32,900円
商標法第68条の30第5項 区分数×38,800円
区分数×43,600円
7
第3回小委員会以降の報告・議論事項
•
•
毎年2回、定期的に委員会を開催し、下表のとおりの点検を実施することとしている。
第3回委員会では、前回までの委員会での議論を踏まえた料金見直し案の報告、令和2年度決算
(歳出・歳入・剰余金)、令和4年度概算要求について点検を実施するとともに、今後の予実管
理に用いるダッシュボードの方針案について議論いただいた。
秋(10~11月)
報
告
春(4~6月)
歳出
・前年度(FY)の決算
(部門別収支、原価計算等)
・前年度(FY)の事業実施状況
歳入
・前年度(FY)の決算
・決算に基づく歳入見通し
・前年(CY)の出願実績等
に基づく歳入見通し
剰余金
・剰余金の状況を提示
予実管理
・実施状況を点検(ダッシュボード)
事
項
予算
ご議論いただ
きたい
事項
同左
・次年度概算要求の報告
・予算の報告
・次年度概算要求について
(主要論点等)
・歳入と剰余金の状況を点検
・更なる歳出削減の要否
・料金改定の要否
・報告を踏まえた議論
・(必要に応じて)料金改定の方針
8
令和4年度 特許庁関係(特許特別会計)予算案のポイント
<予算案額 1,541億円(令和3年度予算額 1,562億円)>
世界をリードする特許行政実現に向け、徹底した歳出削減を継続しつつ、手続や審査体制のDX化等を
推進し、さらに、イノベーション創出に向けた知財活動・経営を重点的に支援する。
世界をリードする特許行政の実現に向けた取組
業務やシステムの効率化を徹底した上で、審査体制の強化や特許行政のDX化を通じ、 世界最
速・最高品質の審査を実現する。
➢世界最速・最高品質の審査体制のもと、業務の効率化を徹底
291.3億円(303.3億円)
➢商標出願の大幅増に対応した審査体制の強化
➢情報システム刷新及び運用の効率化を徹底
商標審査官 7人の定員増
378.1億(428.7億円)
・刷新、運用の効率化を徹底した上で、書面手続等のデジタル化を推進
➢AI活用やフリーアドレス化による審査体制のDX化推進 2.6億円(0.9億円)
・AI活用による審査業務等の効率化を促進
・テレワークとフリーアドレスの組合せにより分散した執務スペースの本庁舎への集約を目指す
9
令和4年度 特許庁関係(特許特別会計)予算案のポイント(つづき)
イノベーション創出に向けた知財活動・経営の重点的支援
イノベーションを通じた我が国の競争力向上を図るため、中小・ベンチャー企業、大学等の知財活動
を重点的に支援し、さらに、企業の持続的な成長及び企業価値の向上に資する知財経営の普及・
実践を支援する。
➢中小・ベンチャー企業の知財活動支援の拡充
10.8億円(8.6億円)及び(独)INPIT交付金107.6億円の内数
• 各都道府県の「知財総合支援窓口」の相談・支援
• 金融機関による知財を切り口とした中小企業支援の促進
• スタートアップの知財戦略構築等の支援
• 日本での出願を基礎とした中小・ベンチャー企業の国際的な権利化の支援
➢大学が利用できる知財活動支援の拡充
3.4億円(1.9億円)及び(独)INPIT交付金107.6億円の内数
• 日本での出願を基礎とした大学等の国際的な権利化の支援
• 専門家派遣を通じた大学等における研究成果の社会実装の支援
➢知財経営の普及・実践支援の拡充
7.9億円(5.2億円)
• 経営層に向けたIPランドスケープを通じた知財経営の普及・実践支援
• 最新特許技術及び知的財産制度の研究推進
10
資料5
資料4
知財活用アクションプラン
(中小企業・スタートアップ版、大学版)の紹介
産業構造審議会 第17回知的財産分科会
令和4年3月3日
知財活用アクションプラン(中小企業・スタートアップ版&大学版)のポイント
ポイント(大学版)
ポイント(中小企業・スタートアップ版)
1. 独立行政法人 工業所有権情報・研修館(INPIT)改革
(知財経営支援の中核機関へ)
①「加速的支援事業」(伴走型支援)の開始
②特許庁スタートアップ支援事業(IPAS※1)の移管
③知財総合支援窓口※2の機能強化(知財情報分析の活用促進)
④商店街のブランディングを支援する「地域ブランドデザイナー」の派遣開始
⑤中小企業関係支援機関との組織的連携の開始(MOU締結)
2. 中小企業庁と特許庁・INPITの連携強化
①中小企業支援における知財課題解決の抜本的強化
(特許庁・INPITの支援策により全面的サポート)
②知財取引適正化の抜本的強化
(下請かけこみ寺と知財総合支援窓口の連携開始)
1. 特許庁・INPITの大学支援機能強化
①INPIT「産学連携・スタートアップアドバイザー事業」
(伴走型支援)の開始
②特許庁・INPITの知財専門家派遣事業の統合
(シーズ発掘から社会実装までのシームレスな支援実現)
③「日本出願を基礎としたスタートアップ設立に向けた国際的
な権利化支援事業」の創設
2. 産業技術環境局と特許庁・INPITの連携強化
①若手研究者発掘支援事業、J-Innovation HUB※3に
おける知財課題解決の抜本的強化
(特許庁・INPITの支援策により全面的サポート)
②産学官連携の各種ガイドラインの知識向上
(産学連携ガイドライン、モデル契約書の周知・理解促進)
公表
●大学の知財活用アクションプラン 令和3年12月10日(金)
https://www.meti.go.jp/press/2021/12/20211210001/20211210001.html
●中小企業・スタートアップの知財活用アクションプラン 令和3年12月27日(月)
https://www.meti.go.jp/press/2021/12/20211227002/20211227002.html
※1:特許庁の創業期ベンチャー企業に対する知財戦略構築支援事業(IPAS:IP Acceleration Program for Startups)
※2:中小企業等が抱える様々な経営課題について、知財の側面から解決を図る支援窓口。47都道府県に設置。
※3:地域オープンイノベーション拠点選抜制度
1
中小企業・スタートアップの知財活用アクションプラン(中小企業庁&特許庁・INPIT)
問題意識:感染症流行下、中小企業等が自社の強みを活かし事業環境変化に対応できる環境整備が必要
支援戦略:中小企業庁&特許庁の施策連携により、中小企業等の経営資源である知財の活用促進を強化
1.知財を活用した経営戦略立案支援
2.知財取引適正化
●INPIT知財総合支援窓口の強化
■加速的支援事業の創設
●中小企業庁&特許庁施策連携
経営課題を認識し解決に知財を活用する意
■下請かけこみ寺&知財総合支
欲のある中小企業に対する知財・経営専門
援窓口
家チームの伴走型支援を創設。
両支援機関の相談員が相互協力
■知財情報分析ツールの活用促進
し、知財の取引上の問題解決に
知財総合支援窓口が中小企業等が使いやす
向けて連携して支援。
い知財情報ツールを発掘し活用を促進。
■知財取引に関する周知
■スタートアップ支援の効率化
知財取引GL・契約書ひな形、
特許庁のスタートアップへの知財戦略構築
下請法における知財の取扱いに
支援事業(IPAS)について加速的支援事業と 関する解説動画をINPITの知財
の効率実施に向けINPITへの移管検討。
学習eラーニングサービス(IP e
■地域ブランドデザイナー派遣
Plat)から配信。
地域ブランドを活用して街おこしを目指す
商店街等にアドバイスを行う専門家を派遣。
●中小企業庁&特許庁施策連携
■よろず支援拠点事業&知財総合支援窓口
これまでの販路開拓等の課題解決の連携相
談支援に加え、オンラインでの連携相談体
制を強化。
■サポイン事業&知財総合支援窓口
サポイン事業採択企業のうち知財戦略立案
支援が必要な企業について、知財総合支援
窓口で新たに創設予定の加速的支援事業の
対象とする。
■中小企業庁創業支援&知財総合支援窓口
支援機関間で連絡先を共有し、創業支援に
おける知財の相談に対応する体制を整備。
■㈱全国商店街支援センター&
知財総合支援窓口
支援機関間で連絡先を共有し、
商店街の地域ブランド構築の相
談対応や知財の重要性の周知を
行う体制を整備。
■中小機構が実施する中小企業
大学校&INPIT
INPITと中小機構が、経営課題と
知的財産に関する研修を企画し、
中小企業大学校を通じた提供を
検討する。
3.知財金融を通じた支援
●知財評価活用のためのひな形等
の作成・普及(特許庁・INPIT)
金融機関の事業性評価等に活用に
資する知財評価活用のための
GL・ひな形を作成。知財総合支
援窓口において、作成したGL・
ひな形を用いた中小企業向けの支
援を開始。
4.海外展開支援
5.連携強化
■中小企業庁DXプ
ラットフォームへの
INPIT参加検討
■INPITが、中小企
業支援機関が参加す
る知財経営に関する
ネットワーク会議を
主催
■INPIT&支援機関
●権利化支援の強化(特許庁)
(以下)とのMOU締結
■外国出願補助金の拡充
による組織的連携強
従来の出願費用に加え、審査請求
化
や中間応答費用まで支援対象拡充。
・日本商工会議所
・中小企業基盤整備
●中小企業庁&特許庁施策連携
機構
■JAPANブランド育成支援等事
・全国中小企業振興
業&外国出願補助金
機関協会(下請かけ
同事業採択事業者について、外国
こみ寺)
出願補助金を採択する際の優遇措
置を検討。
■海外展開ハンズオン支援(中小
図中、
機構)&海外知的財産プロデュー
●背景色有:
サー事業(INPIT)
中小企業庁&特許庁連携策
双方に窓口を設置し、支援先企業
●背景色無:特許庁施策
の海外展開に向けたアドバイスを
迅速に実施。
2
大学の知財活用アクションプラン(産業技術環境局&特許庁・INPIT)
問題意識:知的財産の創造において重要な地位を占める大学研究資源の事業化を促進する環境整備が必要
支援戦略:産業技術環境局&特許庁の施策連携により、基礎研究から事業化までを見据えた知財戦略支援を強化
1.大学の知財経営戦略立案支援
●伴走型支援の強化(特許庁・INPIT)
■産学連携・スタートアップアドバイザー事業(仮称)の創設
(INPIT)
産学連携プロジェクトを推進する大学・パートナー企業に知
財専門家を派遣する「プロジェクト伴走型支援」及び大学から
の産学連携の相談を受付ける「相談・人材育成支援」を創設。
■知財専門家派遣事業の統廃合による支援体制構築
特許庁の知財戦略デザイナー事業及びINPITの産学連携・ス
タートアップアドバイザー事業(特許庁・INPIT専門家派遣事
業)について、INPITにおける一括実施を目指し事業の統廃合
を含めた検討を開始。
●産業技術環境局&特許庁施策連携
■J-Innovation HUB&特許庁・INPIT知財専門家派遣事業
地域オープンイノベーション拠点選抜制度(J-Innovation
HUB)の選定拠点の研究開発プロジェクト等に対し、公募等
により特許庁・INPIT専門家派遣事業の専門家を派遣。
■官民による若手研究者発掘支援事業(若サポ事業)&特許庁・
INPIT知財専門家派遣事業
若サポ事業のマッチング支援事業等に対し公募等により産学
連携・スタートアップ支援事業の専門家派遣等の連携を実施。
2.人材育成
【大学関係者の知財意識向上】
●産業技術環境局&特許庁施策連携
■J-Innovation HUB・若サポ事業への特許庁・INPITからセミナー講
師派遣
J-Innovation HUB、若サポ事業におけるセミナー・研修会等に対して、
特許庁・INPITがニーズに応じて講師を派遣・紹介。
■産学官連携の各種ガイドラインの知識向上
産業技術環境局と協力し、特許庁・INPIT専門家派遣事業において、「産学
官連携による共同研究強化のためのガイドライン」の活用や特許庁が今後
策定する「オープンイノベーション促進のためのモデル契約書(大学編)」
の周知を行い、大学関係者の産学連携や知財意識の理解促進を図る。
■基礎知識向上のためのコンテンツ作成及び普及
特許庁・INPITが知的財産に関する基礎知識の向上のため、有用有効なコ
ンテンツを作成し、IP ePlatでの配信や産業技術環境局と協力して大学の
産学連携拠点を通じた学内研究者への周知を実施。
【支援人材の育成】
●特許庁・INPITにおける支援人材に対する研修等
■支援人材のスキルアップ
特許庁・INPIT専門家派遣事業の支援人材について、産業技術環境局と協
力して、産学連携等に関する最新施策状況を支援に活用できるようスキル
を向上。
3.権利化支援強化
●大学発ベンチャーの権利化の支援強化(特許庁)
■大学発ベンチャー創出等に資する国際的な権利化支援事業の創設(令和4年度予算要求中)
大学発ベンチャー等による事業化を予定している外国出願案件について、その費用(外国特許庁への
出願手数料、翻訳費用、外国出願に要する国内代理人・現地代理人費用)を助成する国際的な権利化
支援事業を創設。
●背景色有:産業技術環境局&特許庁連携策
●背景色無:特許庁施策
3
INPITについて
[名称]
独立行政法人 工業所有権情報・研修館(INPIT)
[設立]
National Center for Industrial Property Information and Training
平成13年(2001年)4月1日
[予算]
112億円(2021年度)
[役職員数]
98名(役員4名(非常勤2名含む)職員94名 )
2021年10月現在
第1の柱:情報提供
J-PlatPat(特許情報プラットフォーム)
Graphic Image Park(画像意匠)
検索ツール
J-PlatPat R2年度アクセス実績
約1億8,345万件(直近5年間で7割増)
第2の柱:人材育成
e ラーニング
知財人材
育成研修
IP ePlat
IP ePlat R2年度実績
知的財産権制度に関する
各種研修
延べ22万6,400人が利用(R2年度リニューアル。コロナ禍の影響もあり、前年度比34倍増)
中小企業
事例学習
ケーススタディ教材
学生等の知財
マインド育成
パテントコンテスト
知財力開発校支援事業
第3の柱:知財経営支援
相談窓口
知財総合支援窓口(各都道府県)◀専門家等のチームを形成して「重点支援」
専門窓口(東京・大阪)
知財総合支援窓口
R2年度相談件数
11万8,451件(直近10年で倍増)
オープンイノ
ベーション支援
大学への専門家派遣、産学連携プロジェクトへの知財支援
特許情報分析(経営に活用する特許マップ作成支援)
4
資料6
資料5
標準必須特許に係る動向報告
産業構造審議会 第17回知的財産分科会
令和4年3月3日
(1)経済産業省 経済産業政策局における取組
~SEP取引環境研究会~
1
標準必須特許のライセンスを巡る取引環境の在り方に関する研究会①
経済産業省では、令和3年3月より標記研究会を設置し、本分野の有識者や産業界の参画
の下、標準必須特許のライセンス交渉を巡る国際的な情勢を整理するとともに、我が国と
して望ましい対応策の検討を実施。
同年7月に本研究会の中間整理報告書を公表。
各検討事項に関する今後の方向性
(中間整理報告書(令和3年7月26日))
(1)世界的な異業種間SEPライセンス紛争の活発化と我が国企業が置かれた状況について
今後も異業種間のSEP紛争の増加が見込まれる中、我が国の多様な産業が紛争に巻き込まれるリスクにさらされている。政府としても、研究開発の支援
のみならず、我が国産業の発展に繋げる観点からライセンス紛争への対応策を検討し、その結果を対外的に発信していく。
(2)ライセンス先とライセンス条件の在り方について当事者間の主張に大きな隔たりがある中、交渉過程に関する当事者間での
情報提供等のルールの必要性の有無等について
ライセンス交渉過程の透明性・予見可能性の向上を通じて適正な取引環境を実現するため、国際的な動向も踏まえつつ、政府と
して、権利者・実施者双方が則るべき誠実交渉のルールを迅速に検討し、対外的に発信していく。
(3)パテントプールについて
SEPが増加していく中で、パテントプールが一つの手段として活用されていくという前提に立ち、政府として、パテントプールにおけるライセンス条件等の透明性
確保を通じて誠実交渉を促すための仕組みについて検討する。
(4)複数企業による共同ライセンス交渉について
水平的な共同交渉について、政府として、まずは競争法上の懸念を生じさせない共同交渉の在り方を検討する。
(5)サプライチェーン内での負担について
特許補償などサプライチェーン内での負担の在り方については、個々の事情によって大きく異なり、単一のルールを決めることは難しいとの意見もあることから、政
府としては、より大きな方向性(半導体の供給からサービスの提供まで含めた商流全体での負担配分 等)についての検討や事実関係の把握に取り組むこ
とが重要。
2
標準必須特許のライセンスを巡る取引環境の在り方に関する研究会②
中間整理報告書で示された方向性を踏まえ、令和3年12月より、権利者・実施者双方が
則るべき誠実交渉のルール(以下「誠実交渉指針」)の策定に向けた検討を実施。
誠実交渉指針は、誠実交渉の規範を設定しようとするもの。
誠実交渉指針(標記研究会で策定中)
⚫ 権利者・実施者双方が則るべき誠実交渉の規範を設定しようとするもの。
⚫ 法的拘束力を持つものではなく、将来の司法の判断を予断するものでもないが、企業・専門家の意見や国内外の
裁判例・政策文書等の動向を踏まえ、国内特許を含むSEPライセンスの交渉過程において、SEPライセンス
交渉の当事者や司法など、多様な関係者によって活用されることを期待するもの。
標準必須特許のライセンス交渉に関する手引き
⚫ 規範を設定しようとするものではない。
⚫ 法的拘束力を持つものではなく、将来の司法の判断を予断するものでもない。
<参考>標準必須特許のライセンス交渉に関する手引き(平成30年6月5日)抜粋
本手引きは、規範を設定しようとするものではありません。ましてや、法的拘束力を持つものでも、将来の司法の判断を予断するものでもありません。現段階に
おける内外の裁判例や競争当局の判断、ライセンス実務等の動向を踏まえ、ライセンス交渉を巡る論点をできるだけ客観的に整理して記述するよう努めたも
のです。
3
(2)特許庁における取組
~手引き改訂に向けた論点及び改訂の方向性の報告~
4
「標準必須特許のライセンス交渉に関する手引き」の改訂①
ライセンス交渉の円滑化や紛争解決の迅速化のため、標準必須特許に不慣れな当事者にも
わかりやすく的確な情報を提供するため、2018年6月5日に「手引き」を公表。
「生きた」手引きであり続けるよう、開かれた、透明性の高い手続で、随時見直し。
Ⅰ. 手引きの目的
◼ 内外の裁判例や実務等の動向を踏まえ、ライセンス交渉を巡る論点をできるだけ客観的に整理
➢ どう行動すれば、「誠実に交渉している」と認められやすいか説明
➢ 法的拘束力を持つものではない
➢ FRAND宣言された特許が対象
Ⅱ. ライセンス交渉の進め方
Ⅲ. ロイヤルティの算定方法
A. 誠実性
◼ 各交渉段階で特許権者と実施者のそれぞれ
A. 合理的なロイヤルティ
◼ 算定の基礎をどのように決定すべきか
がとるべき対応
◼ 不誠実な行為の具体例
B. 効率性
◼ ライセンス交渉の効率性に係る考慮要素
◼ サプライチェーンの中で誰がライセンス契約の
締結主体となるべきか
◼ 料率をどのように決定すべきか
B. 非差別的なロイヤルティ
◼ 使途に応じてライセンスの料率や額を変えることは
差別的か(use-based license)
C. その他の考慮要素
◼ ロイヤルティの支払い方法
5
「標準必須特許のライセンス交渉に関する手引き」の改訂②
裁判例の蓄積、異業種間紛争の表面化を受け、令和3年5月より開始した調査研究において、
有識者検討会を設置の上、手引きの改訂について検討。
改訂案について意見募集を実施し、2022年前半を目途に公表予定。
並行して標準必須特許に関する国際シンポジウムを2022年5月頃に開催予定。
改訂の方針
◼ 当初の目的・位置づけを維持。
➢ 手引きの目的・位置づけ
• 内外の裁判例や実務の動向等を踏まえ、ライセンス交渉を巡る論点をできるだけ客観的に整理。
• どう行動すれば「誠実な交渉態度」と認められやすいかの説明を試みるもの。
• 法的拘束力を持つものではない。
◼ 「手引き」が公表された2018年以降の裁判例や政府機関の公式声明等を基に改訂。
主な改訂のポイント
◼ 特許権者がライセンス交渉の際に提示する情報
➢ 「不誠実と評価される方向に働く可能性」がある行為の記載において、「クレームチャート」の提示は義務でないとする裁判例
(ドイツ)の存在を反映。
◼ サプライチェーンにおける交渉の主体
➢ 特許権者は最終製品メーカーをライセンス交渉先としてよいという裁判例(ドイツ)の存在を反映。
◼ 国際裁判管轄(新規セクション)
➢ 一国の裁判所がグローバルFRANDレートを決定できるとする裁判例(英国、中国)の存在を反映。
➢ 訴訟差止命令(ASI: Anti-Suit Injunction)を発出した裁判例(中国など)の存在を反映。
6
資料7
資料6
特許情報に基づく競争力分析
産業構造審議会 第17回知的財産分科会
令和4年3月3日
(1)特許情報に基づく技術的指標の分析
1
第16回知的財産分科会で示された特許指標関連事項
第16回知的財産分科会(令和3年6月)において、特許情報から算出される指標の推移を、
日本・米国・中国の3国について示した。
⚫ 日本の特許の技術的指標(TR)は、2011年以降低下している。その背景は何か。→観点1
⚫ 技術分野ごとでは、日本の特許の技術的指標(TR)にどのような傾向がみられるか。→観点2
Technology Relevance™
(ご参考)PatentSightの特許指標の算出方法
•
•
被引用数に基づいて算出される。
全世界の平均値が1となる。
観点1
日本の技術的指標(TR)が2011年以降低下している背景
観点2
技術分野ごとの日本の技術的指標(TR)の推移
3.0
その年の時点での係属中特許出願
・登録されている特許の
Grouped
by: Authority - origin /
Bubble各国のTRの推移
Area: Patent Asset Index™
2.5
※Bubble Area: PATENT ASSET INDEX™
(特許ポートフォリオの総価値)
2.0
USA
1.5
China
1.0
0.5
Japan
0.0
0
2,000,000 4,000,000 6,000,000 8,000,000
Portfolio Size
データソース:LexisNexis🄬 PatentSight🄬
規模
2
第16回知的財産分科会で示された特許指標関連事項
同分科会においては、産学官共同出願の特許、企業単独出願の特許及び大学・研究機関単
独出願の特許それぞれの技術的指標(TR)についても示した。
⚫ 日本の技術的指標(TR)は、企業単独出願>産学官共同出願>大学・研究機関単独出願の順とな
り、米国・ドイツとは異なる傾向を示す。その背景は何か。→観点3
2021年時点での係属中特許出願・登録されている特許についての各国別出願類型別特許指標
産学官共同出願
企業単独出願
TR値
産学官
企業
大学・研究
機関
China
1.138
1.025
1.188
USA
1.728
1.559
1.517
Japan
0.840
0.890
0.758
Germany
1.572
1.251
1.105
Korea
1.005
1.060
0.880
観点3
大学・研究機関
単独出願
日本の産学官連携出願特許や大
学・研究機関単独出願特許の技
術的指標(TR)が、企業単独出
願特許のTRより低い背景
データソース:LexisNexis🄬 PatentSight🄬
3
第16回知的財産分科会で示された特許指標関連事項
同分科会においては、特許の相対的価値(CI)に対するポートフォリオの分布についても
示した。
⚫ 日本の特許は、特許の相対的価値(CI)が高い群と低い群とに二極化して分布するとともに、低い
群に偏在。その背景は何か。→観点4
2021年時点での係属中特許出願・登録されている特許についての各国別CI分布
観点4
China
規模
日本の特許が、特許の相対的価値
(CI)が高い群と低い群に二極化
して分布し、低い群に偏在してい
る背景
Japan
USA
低←
CI(10区分)
→高
データソース:LexisNexis🄬 PatentSight🄬
4
特許情報に基づく指標の分析と検証に関する調査研究
特許情報に基づく指標の傾向について、その背景を探るための調査研究を実施。
特許情報等に知見を有する企業、大学等の国内外の有識者に対して、当該事象の考え得る
背景についてヒアリングを行うとともに、5名による有識者検討会における議論を通じて、
当該考え得る背景について検討を行った。
特許情報に基づく指標の分析と検証に関する調査研究
◼ 目的
•
特許情報に基づく指標の推移について、その背景を探る。
◼ 主な実施内容
① ヒアリング調査
ヒアリング対象: 日本国内の有識者8者+日本国外の有識者12者=計19者(P)
② 有識者検討会
有識者:
委員長 長岡 貞男
東京経済大学 教授
石島 尚
(株)リコー 理事 プロフェッショナルサービス部 知的財産センター所長
永田 暁彦
リアルテックホールディングス(株)代表取締役
野崎 篤志
(株)イーパテント 代表取締役社長/KIT 虎ノ門大学院 客員教員
福川 信也
東北大学 准教授
5
【観点1】国別の技術的指標(TR)の推移
日本の技術的指標(TR)が2011年以降低下している点について、「考え得る背景」は、
以下のとおり。
観点1
考
え
得
る
背
景
日本の技術的指標(TR)が2011年以降低下している背景
産業構造の
変化
競争の少ない領域へのシフトが増えたからではないか。
その傾向が、経済の複雑性が増加している点にも表れているのではないか。
→参考1-1
審査環境の
変化
日本国特許庁において外国文献を引用される機会が多くなった結果、日本
文献の引用される回数が減少したのではないか。
→参考1-2
中国の技術
レベル向上
+
指標算出方法
による影響
中国のポートフォリオサイズ急増により、各国のTR値が中国の被引用数を
基準としたものに近づいていったとともに(TR値は、全世界平均を1とし
ているため、件数が多い国の影響を受ける。)、中国の被引用数の伸び率
が高いことにより、相対的に被引用数の伸び率が低い他国のTR値が低下し
たのではないか。
中国の被引用数の増加としては、中国の技術レベルの向上が背景にあるの
ではないか。
→参考1-3・1-4
6
参考1-1:経済複雑性指標(ECI)の推移
日本の経済複雑性指標(ECI)は近年連続1位で増加傾向にあり、オリジナリティのある製
品やサービスが多いと考えられる。
⚫ ECIは、多様な製品を輸出している国ほど高い。また、単に多様であるだけでなく、より複雑な製
品を輸出している国ほど高い。
経済複雑性指標(ECI)の推移
出典:Our World In Data「Economic Complexity Index (ECI) by country ranking」
7
参考1-2:日本国特許庁による外国文献調査・引用
日本国特許庁によるISRにおける外国文献引用率はこの10年で5ポイント以上上昇。
各国特許庁によるISRにおける非母国語文献引用率の推移
非
母
国
語
文
献
引
用
率
国際調査日
出典:WIPO「CHARACTERISTICS OF INTERNATIONAL SEARCH REPORTS」
8
参考1-3:各国の1件あたりの平均被引用件数の推移
2011年から2021年までにおいては、中国の被引用件数伸び率は他国と比して最も高い。
その年の時点での係属中特許出願・登録されている特許についてのにおける各国の1件あたりの平均被引用件数
Avg. number of citations received
平
均
被
引
用
件
数
16
USA
14
United
Kingdom
Switzerland
12
Germany
Japan
10
China
平均被引用件数の伸び率
8
6
4
2
0
データ取得年
データソース:LexisNexis🄬 PatentSight🄬
9
参考1-4:論文の被引用数シェアの推移
中国の論文の被引用数シェア(各国の被引用回数が世界全体の被引用回数に占める割合)
は、直近数年で急増している。
主要国等の論文数シェアと被引用数シェアの推移(5年累積)
米国は、論文数シェア・被引用数シェアが減少傾向
日本は、1990年代後半に、論文数シェア・被引用数シェアが減少
に転ずる
中国は、直近数年で、論文数シェア・被引用数シェアは急増
注)
1. 各国の論文数シェア(論文数が世界全体の論文数に占める割合)を
横軸に、各国の被引用数シェア(各国の被引用回数が世界全体の被
引用回数に占める割合)を縦軸にとっている。
2. 各年の値は5年間累積値である(論文数は5年間に出版された論文数、
被引用回数は2018年までを対象)。ただし、ロシアについては、
1991年以降を対象とした。
3. 人文・社会科学分野を除いた値を文部科学省で試算。
4. 複数の国の間の共著論文は、それぞれの国に重複計上されている。
出典:文部科学省「科学技術要覧 令和元年版」
10
【観点2】技術分野別の技術的指標(TR)の推移傾向
日本全体のTR(技術的指標)は2011年以降減少傾向にあるものの、WIPO35分野別にみ
るとTRが増加傾向・横ばいにある分野も存在。
技術分野ごとの日本の技術的指標(TR)の推移
観点2
WIPO35分野別にみた2011年から2021年のTR推移傾向
分野
傾向
増加
◼
有機ファインケミカル(WIPO14)
◼
◼
◼
◼
◼
バイオ素材分析(WIPO11)
バイオ(WIPO15)
医薬品(WIPO16)
高分子ポリマー(WIPO17)
基礎材料化学(WIPO19)
◼
◼
◼
◼
被覆塗装(WIPO21)
化学工学(WIPO23)
工作機械(WIPO26)
その他機械(WIPO29)
◼
◼
◼
◼
◼
◼
◼
◼
◼
◼
◼
◼
◼
電機・エネルギー(WIPO1)
AV機器(WIPO2)
通信(WIPO3)
デジタル通信(WIPO4)
基礎通信プロセス(WIPO5)
計算機(WIPO6)
IT(WIPO7)
半導体(WIPO8)
光学機器(WIPO9)
計測(WIPO10)
制御(WIPO12)
医療(WIPO13)
食品化学(WIPO18)
◼
◼
◼
◼
◼
◼
◼
◼
◼
◼
◼
◼
材料・金属工学(WIPO20)
微細構造ナノテクノロジー(WIPO22)
環境(WIPO24)
運転(WIPO25)
エンジン(WIPO27)
織機・製紙機械(WIPO28)
日本全体(全分野平均):
熱処理(WIPO30)
機械的要素(WIPO31)
ΔTR = -0.165
輸送(WIPO32)
家具・ゲーム(WIPO33)
これよりΔTRが小さい分野
その他消費財(WIPO34)
(TRの減少幅が大きい分
建設(WIPO35)
野)を橙色字で示す。
(0.1 ≤ ΔTR)
横ばい
(-0.1 < ΔTR < 0.1)
減少
(ΔTR ≤ -0.1)
データソース:LexisNexis🄬 PatentSight🄬
11
【観点3】産学官連携出願の国別の技術的指標(TR)
日本の技術的指標(TR)が、企業単独出願>産学官共同出願>大学・研究機関単独出願
の順となっている点について、「考え得る背景」は、以下のとおり。
観点3
考
え
得
る
背
景
日本の産学官連携出願特許や大学・研究機関単独出願特許の技術的指標
(TR)が、企業単独出願特許のTRより低い背景
大学の
事業化意識
大学の事業化意識が外国に比べて弱く、事業化に寄与する特許が少ない
ためではないか。
→参考3-1
研究費受入額
民間企業との共同研究に伴う研究費受入額が小さく、革新的な技術が生
まれにくいのではないか。
→参考3-2
12
参考3-1:大学における知的財産権収入の推移
米国の大学における知的財産権収入は、日本に比して大幅に多い。
大学における知的財産権収入の推移
•
•
•
日本の知的財産権とは、特許権、実用新案
権、意匠権、商標権、著作権、その他知的
財産(育成者権、回路配置利用権等)、ノ
ウハウ等、有体物(マテリアル等)を含む。
米国の知的財産権とは、ランニングロイヤ
リティ、ライセンス収入、ライセンス発行
手数料、オプションに基づく支払い、ソフ
トウェア及び生物学的物質のエンドユー
ザーライセンス(100万ドル以上)等である。
英国の知的財産権とは、特許権、著作権、
意匠、商標等を含む。
出典:文部科学省 科学技術・学術政策研究所「科学技術指標2021」を基に、特許庁が加工・作成
13
参考3-2:大学・民間企業共同研究1件当たりの研究費受入額
日本の大学・民間企業共同研究に伴う1件当たりの研究費受入額は、200~250万円の範
囲で推移している。
日本の共同・受託研究1件あたりの契約額は、他国に比べ低い。
日本の大学・民間企業共同研究1件当たりの研究費受入額
共同・受託研究の国際比較
1件当たりの研究費受入額(千円)
3,000
2,500
2,000
1,500
1,000
500
•
0
年度
データは、オーストラリアは2009年、その他の国は2010年。
出典:内閣府 総合科学技術・イノベーション会議
第1回基本計画専門調査会(第5期科学技術基本計画)
「データ集 (これまでの科学技術イノベーション政策を振り返って)」
出典:文部科学省「大学等における産学連携等実施状況について」
•
•
「共同研究」とは、大学等と民間企業等とが共同で研究開発を行い、かつ、大学等が要する経費を民間企業等が負担しているものを指す。
「受託研究」とは、大学等が民間企業等からの委託により研究開発を行い、そのための経費が民間企業等から支弁されているものを指し、治験等を除く。
14
【観点4】国別の技術的指標(TR)の分布
特許の相対的価値(CI)に代えて技術的指標(TR)の分布を見た場合であっても、日本の
特許は、TRが高い群と低い群とに二極化して分布しており、低い群に偏在。→観点4’
欧米各国の特許も二極化して分布するものの、低い群に偏在しているとは言えない。中国
は特許は、正規分布に近い。
1,200,000
規
模
Grouped by: Authority - origin
2021年時点での係属中特許出願・登録されている特許についての各国別TR分布
観点4’
1,000,000
800,000
Portfolio Size
China
Japan
USA
Germany
United Kingdom
Switzerland
日本の特許が、技術的指標
(TR)が高い群と低い群に
二極化して分布し、低い群
に偏在している背景
600,000
400,000
200,000
0
1
2
3
4
5
6
TR value class - decile
7
8
9
10
データソース:
LexisNexis🄬 PatentSight🄬
15
【観点4】国別の技術的指標(TR)の分布
日本の特許が、TRが高い群と低い群とに二極化して分布しており、低い群に偏在してい
る点について、「考え得る背景」は、以下のとおり。
観点4’
考
え
得
る
背
景
日本の特許が、技術的指標(TR)が高い群と低い群に二極化して分布し、
低い群に偏在している背景
クロス
ライセンス
日本において特に件数の多い電機業界を中心に、クロスライセンスのた
めに(特許の質にかかわらず)多数の特許を保有したままにしておかな
ければならないという事情があるのではないか。
特許を手放す
マインド
日本には、不要な特許を積極的に手放すといったマインドが醸成されて
いないのではないか。海外の企業が積極的に特許を手放せるマインドが
ある背景に、海外では特許の取引市場が発達していることもあるのでは
ないか。
16
特許情報に基づく指標を用いた分析の利点・留意点
前回会合で、被引用数などから算出される指標を基に議論を行った結果、指標の傾向につ
いて指摘を頂戴したこと受け、その背景を探るための検討を行った。
その結果、このような指標を用いて分析する場合は、以下に示す利点があるとともに、下
記留意点も意識する必要があることがわかった。
利
点
留
意
点
指標の算出方法が明らかになっている場合、定量的な分析を比較的容易に行うことができ
る。
指標の算出方法及び特性については、十分に確認する必要がある。例えば、特許の被引用
数に基づく指標を用いる場合、競争の少ない領域の技術や他社が追従しないようなオリジ
ナリティのある技術については、指標が低くなる傾向にある。
国という単位での指標の推移や傾向の違いには、国ごとの産業構造の違いや、産業分野ご
との影響の違いなど様々な要因が考え得るが、国ごとの指標の分析のみでは、そのような
要因の検証を十分に行うことは困難である。
特許情報に基づく指標であって、その算出方法を把握できるものについて
は、仮説となる背景を設定し、検討のトリガーとすることは有効である一
方、実際の検討にあたっては、産業分野ごとの分析や、様々な経済指標
(統計)に基づいた多角的な分析が必要である。
17
(2)特許出願技術動向調査の今後の方向性
18
WIPO IPC Green Inventory
2010年、世界知的所有権機関(WIPO)により、気候変動に関する国際連合枠組条約
(UNFCCC)によりリスト化された環境親和的技術と国際特許分類との対照表が公表さ
れた。
(参考)技術と特許分類との対照表より一部抜粋して特許庁作成(運輸部門のうち一般車両関連部分)
VEHICLES (GENERAL)
HYBRID VEHICLES, E.G. HYBRID ELECTRIC VEHICLES (HEVS)
CONTROL SYSTEMS
IPC
GEARINGS THEREFOR
F16H 3/003/78, 48/00-48/30
BRUSHLESS MOTORS
ELECTROMAGNETIC CLUTCHES
REGENERATIVE BRAKING SYSTEMS
ELECTRIC PROPULSION WITH POWER SUPPLY FROM FORCE OF NATURE, e.g., SUN,
WIND
ELECTRIC PROPULSION WITH POWER SUPPLY EXTERNAL TO VEHICLE
WITH POWER SUPPLY FROM FUEL CELLS, E.G. FOR HYDROGEN VEHICLES
H02K 29/08
COMBUSTION ENGINES OPERATING ON GASEOUS FUELS, e.g. HYDROGEN
POWER SUPPLY FROM FORCE OF NATURE, e.g., SUN, WIND
CHARGING STATIONS FOR ELECTRIC VEHICLES
https://www.wipo.int/classifications/ipc/green-inventory/home
B60K 6/00, 6/20
B60W 20/00
H02K 49/10
B60L 7/10-7/22
B60L 8/00
B60L 9/00
B60L 50/50-58/40
F02B 43/00
F02M 21/02, 27/02
B60K 16/00
H02J 7/00
19
WIPO IPC Green Inventoryに基づいた動向分析
2018年、WIPOは、WIPO IPC Green Inventoryをもとに環境親和的技術の動向を分析。
日本国籍出願人に環境親和的技術の蓄積がなされていることを示唆。
Figure5: Green energy patent filings by origin
Patent families in green energy technologies PCT international patent applications in green
By origin, 2005-15
Energy technologies by origin, 2007-17
オランダ, 1%
カナダ, 1%
その他, 7%
スイス, 1%
英国, 1%
ロシア, 2%
カナダ, 2%
フランス, 2%
英国, 2%
ドイツ, 6%
独
韓
日本, 29%
その他,
14%
日本, 29%
オランダ, 3%
フランス, 4%
韓国, 13%
中国, 6%
米国, 14%
中国, 24%
米国, 21%
韓国, 6%
ドイツ, 12%
* In this paper, Patent Family is defined as a set of interrelated patent applications filed in one or more countries or jurisdictions to protect the same
invention.
https://www.wipo.int/edocs/pubdocs/en/wipo_pub_econstat_wp_44.pdf
20
WIPO IPC Green Inventoryに基づいた動向分析
2カ国以上の国で出願された環境親和的技術に関するパテントファミリーの件数では日本
国籍出願人が首位を維持している(2018年の調査時点)。
Japan 日本
U.S. 米国
韓国
Republic of Korea
ドイツ
Germany
英国
U.K.
France
フランス
中国
China
https://www.wipo.int/edocs/pubdocs/en/wipo_pub_econstat_wp_44.pdf
21
Green Transformation Technologies Inventory(GXTI)の作成・公表
グリーン・トランスフォーメーション(GX)関連技術を俯瞰できる技術区分表である
「Green Transformation Technologies Inventory(GXTI)」の作成・公表を予定している。
GXTI上の各技術の出願動向を概括し、日本の強み等を見出すことを目指す調査も実施予定。
過去の環境関連技術区分表
(平成26年度調査時)
大区分
A エネルギー
中区分
A-01 創エネ技術
過去の特許動向調査の例(平成26年度調査時)
大区分別の出願人国籍別件数(日米欧中韓、公報発行年2014年)
小区分
1 太陽光発電
グリーン
2 太陽熱発電
イノベーション
3 風力発電
37,675
21,613
20,083
30,222
14,110
6,124
31,241
17,332
15,811
19,018
12,196
5,057
4 地熱発電
エネルギー
5 小水力発電・潮力発電・波力発電・揚水発電
6 バイオマス
7 燃料電池
A-02 省エネ技術
1 超電導送電
2 次世代自動車
3 ヒートポンプ
技
術
区
分
省資源
2,133
1,795
1,441
2,938
693
314
環境
2,532
2,113
1,856
5,899
931
420
社会インフラ
2,462
1,114
1,422
2,903
607
448
4 省エネ住宅・建築(ZEB,ZEHのうち設備に関する技術)
5 BEMS,HEMS
6 省エネ電気製品(家電・情報機器・照明)
7 次世代省エネデバイス
8 光エレクトロニクス
9 次世代触媒
今後、
最新の動向に合わせて技術区分表(GXTI)
を作成し、検索式も含めて公表。
出典:平成26年度グリーンイノベーション分野の特許出願状況調査報告書
日本
米国
欧州
中国
韓国
その他
出願人国籍
作成した技術区分表をもとにして
特許動向調査を実施し、報告書として公表。
22
特許出願技術動向調査の調査テーマの概要紹介
来年度、5テーマの特許出願技術動向調査を実施予定。
来年度実施テーマのうち、「水素・アンモニア技術」では、材料の製造から貯蔵、利用
(燃料電池、自動車等)まで、幅広く取り扱う調査とする予定。
2021年度(実施中、2022年4月~5月公表予定)
•
•
•
•
教育分野における情報通信技術の活用
手術支援ロボット
ウイルス感染症対策
GaNパワーデバイス
2022年度(実施予定、2023年4月~5月公表予定)
•
•
•
•
•
LiDAR
スマート物流
ヒト幹細胞関連技術
ミリ波帯のMIMO及びアンテナ技術(5Gへの応用を含む分析)
カーボンニュートラルに向けた水素・アンモニア技術(製造から利用まで)
23
資料8
資料7
来年度に向けて
産業構造審議会 第17回知的財産分科会
令和4年3月3日
来年度に向けた全体像
世界をリードする特許行政の実現に向けて
業務やシステムの効率化による歳出削減
資料3:財政点検小委員会の活動報告
世界最速・最高品質の審査を実現するための
出願・審査・審判・登録への取組
本資料7:(1) 実施庁目標
イノベーション創出に向けた知財活動・経営の重点的支援
中小企業・スタートアップ向け
企業経営における知財マネジメントの浸透
(経営層を交えたIPランドスケープ策定支援)
本資料7:
(2) 来年度の新規・拡充事業
事業1
ベンチャーキャピタルへの知財専門家派遣
本資料7:(2) 来年度の新規・拡充事業
事業2
中小企業・スタートアップの知財活用アクションプラン
資料4:知財活用アクションプランの紹介
産業におけるDXの加速への知財面での対応
(「標準必須特許のライセンス交渉に関する手引き」の改訂)
資料5:
標準必須特許に係る動向報告
外国出願補助金の拡充
本資料7:(2) 来年度の新規・拡充事業
事業3
大学向け
大学の知財活用アクションプラン
産業におけるGXの加速への知財面での対応
(GX Technologies Inventoryの作成・公表)
資料6:
(2) 特許出願技術動向調査の今後の方向性
資料4:知財活用アクションプランの紹介
大学等発スタートアップの権利化の支援強化
本資料7:(2) 来年度の新規・拡充事業
事業4
1
(1)実施庁目標
2
実施庁目標とは
実施庁
「中央省庁等改革基本法」第16条第6項第2号に基づき、主に政策の実施機能を担う組織として、
平成13年1月の省庁再編時に、7省庁に9実施庁が設置された。現在は、4省5実施庁となっている。
現行の実施庁
:法務省(公安調査庁)、財務省(国税庁)、経済産業省(特許庁)、国土交通省(気象庁、海上保安庁)
廃止された実施庁 :防衛庁(防衛施設庁)、総務省(郵政事業庁)、厚生労働省(社会保険庁)、国土交通省(海難審判庁)
実施庁目標の策定
中央省庁等改革基本法に基づき、各年度に特許庁が達成すべき目標を経済産業大臣が設定し、
特許庁長官に通知する。(※今回は、令和4年度目標の設定にあたり、御意見を伺う。)
実施庁目標に対する実績の評価
特許庁が達成すべき目標に対する実績を経済産業大臣が評価し、特許庁長官に通知する。
(※今回は、令和2年度目標に対する実績の評価にあたり、御意見を伺う。)
3
令和2年度目標に対する実績と令和4年度の目標について
• 令和2年度目標に対して、一部の項目※を除き、達成しているところ。
※移転登録、全国の知財総合支援窓口とよろず支援拠点との連携件数
• 未達のものについては、主に新型コロナウイルスによる出勤抑制等の影響が要因
であった。
• 達成できなかった要因や政府目標等を踏まえ、令和2年度の実績や令和4年度目
標についてご議論いただきたい。
• なお、令和4年度から目標の変更を検討する項目は、実施庁目標に関係する政府
目標等があるものや、令和2年度から令和3年度の直近にかけて足元の状況が変
化したものを対象としたい。
4
1-1.審査期間について
令和2年度目標
令和2年度評価
(案)
令和3年度目標
令和4年度目標(案)
一次審査通知までの期間
9~11月
10.2月
9~11月
8.5~10.5月*2
早期審査
一次審査通知までの期間
3月以内
2.8月
3月以内
3月以内
スーパー早期審査
一次審査通知までの期間
1月以内
0.9月
1月以内
1月以内
権利化までの期間
14~16月
15.0月
14~16月
13.5~15.5月*2
一次審査通知までの期間
5~7月
6.3月
5~7月
5~7月
早期審査
一次審査通知までの期間
3月以内
2.1月
3月以内
3月以内
権利化までの期間
6~8月
7.1月
6~8月
6~8月
一次審査通知までの期間
9~11月
10.0月
8~10月
年度平均6~8月
令和4年度末6.5月以内*2
早期審査
一次審査通知までの期間
3月以内
2.0月
3月以内
3月以内
ファストトラック審査対象となる出
願の割合
40%以上
40.1%*1
40%以上
40%以上
ファストトラック審査の
一次審査通知までの期間
6月以内
5.4月
6月以内
6月以内
権利化までの期間
10~12月
11.2月
9~11月
年度平均7~9月
令和4年度末8月以内*2
項目
特許
意匠
商標
*1 ファストトラック審査対象外案件は出願から除外。
*2 政府目標を踏まえ短縮。
5
1-2.審査の質について
令和2年度目標
令和2年度評価
(案)
令和3年度目標
令和4年度目標
(案)
上位評価割合
60%以上
66.8%
上位評価割合
65%以上
上位評価割合
65%以上
出願人の求めに応じた面
接の実施
原則、100%
面接を実施
(緊急事態宣言下では対
面での面接等に一部支障
が生じたが、)オンライン面
接を活用し、求めに応じて
最大限実施した*2
原則、100%
面接を実施
原則、100%
面接を実施
コミュニケーションに関する
ユーザーの評価*1
上位評価割合
70%以上
77.9%
上位評価割合
70%以上
上位評価割合
70%以上
出願人の求めに応じた面
接の実施
原則、100%
面接を実施
(緊急事態宣言下では対
面での面接等に一部支障
が生じたが、)オンライン面
接を活用し、求めに応じて
最大限実施した*2
原則、100%
面接を実施
原則、100%
面接を実施
コミュニケーションに関する
ユーザーの評価*1
上位評価割合
60%以上
66.0%
上位評価割合
65%以上
上位評価割合
65%以上
原則、100%
面接を実施
(緊急事態宣言下では対
面での面接等に一部支障
が生じたが、)オンライン面
接を活用し、求めに応じて
最大限実施した*2
原則、100%
面接を実施
原則、100%
面接を実施
項目
コミュニケーションに関する
ユーザーの評価*1
特許
意匠
商標
出願人の求めに応じた面
接の実施
*1 主たる出願人に対し、アンケートを送付。「5:満足」、「4:比較的満足」、「3:普通」、「2:比較的不満」、「1:不満」のうち、上位2段階である
「5:満足」及び「4:比較的満足」を集計。
*2 インターネット回線がない等の場合は、電話応対等によって実施した。
6
【論点1ー1】令和4年度目標:特許の審査期間について
• 「日本再興戦略 改訂2014」では、平成35年度(令和5年度)末までに、
① 「一次審査通知までの期間(以下、「FA期間」という。)」を「平均10月以内」、
② 「権利化までの期間※(以下、「TP期間」という。)」を「平均14月以内」
とすることとされているため、任期付審査官の採用、先行技術に係るデータベースの整備、
文献調査の民間委託等を進めることで、目標の達成に取り組んでいるところ。
※ 出願人が補正等をすることに起因して特許庁から再度の応答等を出願人に求めるような場合や、特許庁に応答期間の延長や早期の審査を求める場合
等の、出願人に認められている手続を利用した場合を除く。
• 令和2年度の実績は、「FA期間」が10.2月(年度平均)、「TP期間」が15.0月(年
度平均)、令和3年度の12月末時点の実績は、 「FA期間」が10.1月、「TP期間」が
15.2月であるところ、令和4年度は、政府目標達成に向けて目標を短縮すべきではない
か。
• 令和4年度の目標値としては、「FA期間」を「8.5~10.5月(年度平均)」、「TP期間」
を「13.5~15.5月(年度平均)」としてはどうか。
7
【論点1-2】令和4年度目標:商標の審査期間について
• 2022年度(令和4年度末)までに、
①「知的財産推進計画2019」 では、 「FA期間」を「6.5月」、
② 「成長戦略(2019年6月21日閣議決定)」 では、「TP期間」を「8月」
とすることとされているため、任期付審査官の採用、拒絶理由の該当性に関する横断的な
調査の外注等を進めることで、目標の達成に取り組んでいるところ。
• 令和2年度の実績として、「FA期間」が10.0月(年度平均)、「TP期間」が11.2月
(年度平均)であるところ、令和3年度12月末の実績値としては、 「FA期間」が8.3
月(年度平均)、「TP期間」が9.9月(年度平均)と政府目標に向け短縮している。
• 令和4年度の目標としては、下記のとおり政府目標と一致する値に設定することとしてはど
うか。
①「FA期間」を「年度平均6~8月、令和4年度末 6.5月以内」
②「TP期間」を「年度平均7~9月、令和4年度末 8 月以内」
12
11
10
9
8
7
6
5
4
3
10.9
11.2
9.9
10
9.9
9.3
7.7
6.8
5.8
4.3
7.9
8.3
6.3
4.9
商標 FA
商標 TP
(月)
平成27年度 平成28年度 平成29年度 平成30年度 平成31年度 令和2年度 令和3年度
(12月まで)
8
(参考)出願件数の推移
特許・商標・意匠
(万件)
40
31.9
31.8
31.8
31.4
30.8
28.8
30
特許
20
15.7
16.1
16.5
17
商標
(※料金未納により却下される一部出願を除く)
13.1
13.7
3
3.1
3.2
3.1
3.1
平成27
平成28
平成29
平成30
平成31
10
3.2
意匠
0
令和2(暦年)
9
2.審判について
令和2年度目標
令和2年度評価
(案)
令和3年度目標
令和4年度目標
(案)
特許
10~12月
10.0月
9~11月
9~11月
意匠
4~6月
5.1月
4~6月
4~6月
商標
7~9月
5.4月
5~7月
7~9月*1
拒絶査定
不服審判
早期審理
特許
意匠
商標
2~4月
2.7月
2~4月
2~4月
無効審判
特許
意匠
商標
8~10月
7.5月
7~9月
7~9月
特許
8~10月
7.4月
7~9月
7~9月
商標
5~7月
5.0月
5~7月
5~7月
項目
拒絶査定
不服審判
異議申立て
*1 足元の請求件数等を踏まえ、令和4年度目標を設定。
10
【論点2】令和4年度目標:審判の審理期間について
• 令和2年度の商標の査定件数に比例し、令和2年度の商標の拒絶査定不服審判請求
件数については、増加しているところ、令和2年度中に請求された件数の半数以上は令和
3年度に審理されるため、直近令和3年度の審理期間は5.9カ月(見込み値)と影響
が生じている。
令和3年度12月時点の請求件数(商標)がすでに、令和2年度を上回っているところ、
令和4年度の審理期間は、平均8.5月となる見込みであるが、更なる業務効率化策等を
講じて、処理件数を増加させ、平均8月以内となることを目指す。そのため、令和4年度
の商標の「拒絶査定不服審判の審理期間」の目標については、「7~9月」としてはどうか。
2.5
1400
1200
2.0
1000
1.5
800
600
1.0
400
0.5
200
0.0
0
(万件) 平成28年度 平成29年度 平成30年度 平成31年度 令和2年度 令和3年度 (件)
(12月まで)
拒絶査定件数
拒絶査定不服審判請求件数
11
3.出願・登録等について
項目
令和2年度目標
令和2年度評価
(案)
令和3年度目標
令和4年度目標(案)
電子出願システム
停電や大規模災害等が
発生した場合も含め、
24時間365日受付*1
達成
24時間365日受付*2
24時間365日受付*2
方式審査期間
全て即日*3
達成
全て即日*3
全て即日*3
全件3日以内*4
達成
全件3日以内*4
全件3日以内*4
出勤抑制等の影響で
年平均18日以内
【未達】
全件10日以内*3
6月末までは13日以内、
7月以降は全件を10日
以内。ただし出勤抑制等
の影響により遅延が生じ
る場合は、
年平均15日間以内。*3
設定登録
登録
公報
移転登録
全件10日以内
特許・意匠・
商標
3~4週間*5
達成
3~4週間*5
10日以内*5*6
電話:原則即時
(折り返し対応の場合は即日)
メール:原則2営業日以内
達成
電話:原則即時
(折り返し対応の場合は即日)
メール:原則2営業日以内
電話:原則即時
(折り返し対応の場合は即日)
メール:原則2営業日以内
出願、登録等に関する
問合せへの対応
*3
*1 メンテナンス時間及びバックアップセンターへの切替時間を除く。
*2 メンテナンス時間及び停電や大規模災害等が発生した場合を除く。 (※バックアップセンター廃止に伴う目標変更)
*3 手続に不備がある場合は除く。
*4 書面による場合及び手続きに不備がある場合を除く。
*5 年末年始及びゴールデンウィークを挟む場合並びに編成対象のデータにエラーがある場合を除く。
*6 公報システム刷新により目標修正。
12
【論点3】令和4年度目標:出願・登録等について
• 「移転登録」については、セキュリティの観点からテレワークによる業務が困難であり、かつ設
定登録とは異なり、システムの観点から人手による作業が必要なため、緊急事態宣言によ
る出勤抑制等の影響を受け、年平均18日間と影響が生じているところ。
• 令和3年度については、令和2年度よりも長期にわたり、緊急事態宣言による出勤抑制
等の影響を受けたため、年平均約10日間の遅延が生じる見込みであり、現時点ですでに
令和3年度終了時点でも全件10日以内の目標は達成できない見込みである。
• 令和4年度については、令和3年度に生じた遅延を早期にできるだけ短縮する一方で、出
勤抑制等による遅延の影響を織り込むべく、「6月末までは13日以内、7月以降は全件を
10日以内。ただし、出勤抑制等の影響により遅延が生じる場合は、年平均15日間以内
となるように処理を行う」こととしてはどうか。
• 遅延の要因となっている課題については、特許特別会計の財政改善状況等をみながら、今
後検討することとし、移転登録申請者には、HPで遅延が生じていることを周知することなど
ユーザーへの丁寧なコミュニケーションを引き続き行いたい。
• また、「公報発行までの期間※」については、公報システム刷新により、「10日以内」と短縮
を行いたい。
※設定登録から公報発行日までの期間
13
4.中小企業支援及びグローバル化への対応について
令和2年度目標
令和2年度評価
(案)
令和3年度目標
令和4年度目標
(案)
全国の知財総合支援窓口におけ
る相談件数
105,000件
以上
118,514件
105,000件以上
105,000件以上
全国の知財総合支援窓口と
よろず支援拠点との連携件数
2,500件以上
2,474件【未達】*4
9,000件以上
12,000件以上
項目
中小企業
支援
グローバル化
への対応
全国の知財総合支援窓口と
関係機関との連携件数
知財に着目した融資等を行う
金融機関数 *1
累計75機関以上
83機関
累計85機関以上
累計90機関以上*5
新規に特許等の出願を行う
中小企業数
14,000社以上
15,524社
14,000社以上
14,000社以上
地域未来牽引企業等に
知財戦略構築のための
ハンズオン支援を行う件数*2
250件以上
267件以上
250件以上
250件以上
特許審査ハイウェイ(PPH)の
一次審査通知期間*3
3月以内
2.6月
3月以内
3月以内
新興国等の知財関係者を
対象とした研修
30カ国・機関以上
59カ国・機関
40カ国・機関以上
290人以上
40カ国・機関以上
290人以上
*1 特許庁の知財ビジネス評価書作成支援を活用して、融資を行う金融機関数(公表分)。
*2 地域未来牽引企業等のターゲット企業にプッシュ型で訪問し、専門家や他の支援機関等のリソースも活用しつつ、当該企業における知財戦略の策定支援等
の伴走型支援を行う。
*3 他庁で特許可能と判断されて申請された案件の、我が国における一次審査通知期間。
*4 全国的に新型コロナウイルス感染症緊急事態宣言が発出されたことによって、よろず支援拠点への相談件数が減少したために一部未達。
*5 足元の実績を踏まえて目標変更。
14
【論点4】令和4年度目標:中小企業支援及びグローバル化への対応について
• 「全国の知財総合支援窓口とよろず支援拠点との連携件数」については、令和2年度実
施庁目標を達成できなかったが、これは、4~5月に緊急事態宣言等による、知財総合支
援窓口とよろず支援拠点のいずれも対面相談停止による影響を受け、よろず支援拠点と
の連携件数が減少したことが要因である。
令和2年度6月以降は、オンライン体制が整い、オンライン面談を実施するとともに、対面
相談が再開された。
• また、感染症流行下においては、中小企業等が自社の強みを活かし、事業環境変化に対
応できる環境整備が必要なところ、令和3年12月10日から、中小企業等の経営資源で
ある知財の活用促進を強化するため、知財活用アクションプランを開始している。
• 令和4年度では、この知財活用アクションプランによって、中小企業支援を一層推進するべ
く、「全国の知財総合支援窓口と関係機関との連携件数」の目標については、「12,000
件以上」としてはどうか。
※令和3年度12月時点の「全国の知財総合支援窓口と関係機関との連携件数」の実績値は「8,953件」
• さらに、「知財に着目した融資等を行う金融機関数」については、足元の状況を踏まえ、令
和4年度目標を「累計90機関以上」としたい。
15
今後の進め方について
• 実施庁目標については、制度や社会のニーズに見合ったものを設定しているた
め、原則どのような状況下においても、その目標達成に向けて業務を遂行する
べきであるが、令和2年度以降のコロナ対応等に伴う未曾有の危機対応を余儀
なくされ定常業務の遂行が困難になる場合等、やむをえない状況下と判断でき
る際に、目標を変更することができる制度を今般導入したところ。
• また、今後の実施庁目標については、上記制度導入に伴い、毎年度2月半ば~
3月上旬に定例として行う機会以外にも意見を聴取する可能性があることから、
実施庁目標を専門に取扱う別の会議体で議論することにしたい。
16
(2)来年度の新規・拡充事業
17
事業1
企業経営における知財マネジメントの浸透
知財情報の活用(IPランドスケープ)
IPランドスケープとは、経営戦略又は事業戦略の立案に際し、(1)経営・事業情報に
知財情報を取り込んだ分析を実施し、(2)その結果(現状の俯瞰・将来展望等)を経営
者・事業責任者と共有すること。その結果に基づいて、意思決定が行われる。
企業のミッション/ビジョン/バリュー
価値創造メカニズム
Input
Process
Output
Outcome
経営資源
ビジネスモデル
製品・サービス
経済的価値
社会的価値
知財・無形資産
メカニズム設計時の思考の方向=バックキャスト
【IPランドスケープ】
経営・事業における知財・無形資産の位置づけを可視化・裏付け
知財情報
①
②
③
コアコンピタンスの特定、競合他社の状況把握
R&Dテーマ・新規事業の探索、M&A・アライアンス候補の選定
傾向の把握、将来予測 など
コーポレートガバナンスコード
の改訂
知的財産への投資に関する補充
原則が追加された。
• 知財投資の開示・提供
• 知財投資の監督
18
事業1
企業経営における知財マネジメントの浸透
IPランドスケープに関するアンケート結果
[認知・理解度]IPランドスケープという言葉を知っている者は約8割。その内、IPラン
ドスケープを理解している者は約3割。
[必要性]IPランドスケープが必要と回答した者は約8割。
[実施状況]IPランドスケープを十分に実施できている者は約1割。
[認知・理解度]
[必要性]
n=1515
n=1515
理解している
n=1515
実施できており、
経営者等への共有ができている
必要
聞いたことがない
21%
[実施状況]
よく分からない
29%
22%
不要
10%
31%
8%
実施できている
2%
55%
27%
23%
言葉は知っているが、
実施内容は分からない
45%
言葉は知っているが、
従来活動との相違が分からない
出典:経営戦略に資する知財情報分析・活用に関する調査研究
27%
実施していない
必要になる可能性がある
意欲はあるが、
実施できていない
19
事業1
企業経営における知財マネジメントの浸透
企業経営へのIPランドスケープ活用に係る調査研究
調査対象企業において、経営層と知財部門を含む企業内チームとの十分な意思疎通・連携
のもと、中長期的な事業成長に資する知財戦略を知財情報を活用しつつ策定・実践するこ
とを通じ、知財経営を企業に普及させるために必要な事項を調査研究。
経営層による座談会の実施
経営層(幹部候補者)向け現地調査の実施
調査対象企業
派遣チーム
経営
コンサルタント
知財
コンサルタント
●「As is」におけ
る知財の果たす役
割の認識
●「To be」及び
「To be」におけ
る知財の果たす役
割の構想
●「As is」から
「To be」への移
行のための知財戦
略の策定
経営層 等
●十分な意思疎通・連携
企業内チーム
●現地調査の経験や成果について経営層
どうしで共有
●知財経営の在り方等について議論
知財部門
報告書の作成
経営企画
部門
事業部門
オプション派遣
●知財情報ツール
活用及び分析の支援
知財情報分析
アドバイザー
●経営デザインシート等を
活用した知財と価値創造メ
カニズムとの関係の認識
●知財情報による裏付け
●知財経営の在り方に関する提言
●知財経営リテラシーに関するチェックリスト
●事例集、ケーススタディ
など
※本資料は、政府が閣議決定した令和4年度予算案に盛り込まれている事業に関するものです。実際の事業実施には当該予算案の国会での可決・成立が必要と
なりますので、今後、事業内容等に変更が生じる可能性があることを予め御了承ください。
20
事業1
企業経営における知財マネジメントの浸透
(参考)IPランドスケープの活用事例((株)旭化成様ご提供)
コロナ禍を受けて需要が見込まれる技術分野αの動向を俯瞰。技術分野αの中、当社保有
の技術βを戦略的に活用する可能性の検討材料として実施。
■C分野への市場参入に向けたアプローチの提案
■技術分野αにおける競合企業の俯瞰
用途A
✓ C分野への参入に必要な、当社保有の技術βとの組み合わせが
期待される優れた技術γを持つ企業群のポジションを俯瞰。
✓ 特許情報に加えビジネス情報を加味し、提携候補企業を抽出。
用途B
製造方法
各ドットは特許を示す(同色は同じ出願人)
✓ 技術分野αの特許出願を俯瞰したところ、用途Aや用途Bを対象とするも
のがメイン。C用途での技術開発は活発ではない(特許のカタマリなし)。
✓ 用途Cには支配的なプレーヤもいないことから、コロナ禍におけるニーズに合
わせた早急な事業化が望まれる。
特許スコア
技術γを持つ企業群のポジションの俯瞰
技術的価値
21
事業2
ベンチャーキャピタルへの知財専門家派遣
ベンチャーキャピタルへの知財専門家派遣調査事業
これまで特許庁では知財アクセラレーションプログラム(IPAS)を実施し、スタートアップに知財専門
家及びビジネス専門家からなる知財メンタリングチームを派遣することにより事業戦略に連動した知財
戦略構築等を支援してきた。
一方、スタートアップを支援するベンチャーキャピタル(VC)には、ビジネス目線を踏まえた知財戦
略構築支援の知見が十分に蓄積されているとはいえない。
そこで、知財専門家をVCに派遣し、VCにおける知財戦略策定支援の有効性や、VCに必要な知財支援機
能を整理予定。
スタートアップ
ベンチャーキャピタル
出資・成長支援
知財戦略の
構築を支援
特許庁
知財専門家を派遣
知財専門家
ビジネス専門家
知財専門家・ビジネス専門家
からなるメンタリングチームを派遣
知財戦略の
構築を支援
※本資料は、政府が閣議決定した令和4年度予算案に盛り込まれている事業に関するものです。実際の事業実施には当該予算案の国会での可決・成立が必要と
なりますので、今後、事業内容等に変更が生じる可能性があることを予め御了承ください。
22
事業3
中小企業向け外国出願補助金の拡充
中小企業等外国出願中間手続補助金
令和3年度までの特許庁の支援事業では、PCT出願から国内移行までの各段階において、中小企業の外
国出願に係る費用を支援する施策(PCT減免・交付金、外国出願補助金)を講じている。
一方で、外国出願した後の中間手続(審査請求や中間応答)については支援対象外であり、中小企業か
ら中間手続に対する支援を望む声があったため、外国出願の審査請求・中間応答に係る費用(外国特許
庁への手数料、代理人費用、翻訳費など)の半額を助成する補助金を新設し、中小企業の外国出願の権
利化を一層手厚く支援することとした。
対象者
「中小企業者」又は「中小企業で構成されるグループ」(構成員のうち中小企業者が3分の2以上を占める者)
※みなし大企業を除く
審査請求支援事業
中間応答支援事業
①外国出願補助金利用企業・利用特許案件であること
②他事業において、同様の補助を受けていないこと など
①外国出願補助金利用企業・利用特許案件であること
②他事業において、同様の補助を受けていないこと
③新規性及び進歩性に関する拒絶理由であること
④期限内の応答が担保できること
など
対象となる
費用
①審査請求料
な
②審査請求に要する国内・現地代理人費用
③審査請求と同時の自発補正にかかる庁費用
④③にかかる翻訳費
①中間応答に要する外国特許庁への庁費用
②中間応答に要する国内・現地代理人費用
③中間応答に要する翻訳費用
上限額
1企業あたり:60万円(複数案件可能)
1カ国あたり:20万円
1企業あたり:30万円(1企業1案件1カ国)
補助率
1/2以内
1/2以内
主な支援要件
※本資料は、政府が閣議決定した令和4年度予算案に盛り込まれている事業に関するものです。実際の事業実施には当該予算案の国会での可決・成立が必要と
なりますので、今後、事業内容等に変更が生じる可能性があることを予め御了承ください。
23
事業4
大学等発スタートアップの権利化の支援強化
日本出願を基礎としたスタートアップ設立に向けた国際的な権利化支援
日本の産業競争力強化のためには、基礎研究等から創出されるイノベーションの社会実装促進が必要。
近年、スタートアップによる事業化を通じて、大学・公的研究機関・企業等が研究から生まれた最先端
技術を社会実装することが活発化。こうしたスタートアップによるグローバルな事業の持続的な実施の
ためには、研究段階から適切に国際的な権利取得をしておくことが重要。
スタートアップに研究成果を活用してもらう予定の大学・公的研究機関等に対して、海外出願に必要な
費用を補助。
<助成の概要>
⚫ 補助率:1/2
⚫ 補助金上限額:1出願あたり150万円
※1申請者あたり年間30件の採択を上限。ただし、事業の実施状
況等を勘案して年度途中に見直す場合あり。
⚫ 補助対象経費:
• 海外特許庁への出願手数料
• 翻訳費用
• 海外出願に要する国内代理人・現地代理人費用
<支援対象の選考基準>
⚫ 出願先での権利取得の可能性
⚫ 出願先の国・地域における市場性や事業性
⚫ 自身の保有特許権の他者への実施許諾率 等
<今後の予定>
2022年2-3月 実施事業者(事務局)の
公募・選定
2022年4月
実施事業者(事務局)の採択
2022年初夏
補助対象者(海外出願の補助
を希望する者)の公募開始
※本資料は、政府が閣議決定した令和4年度予算案に盛り込まれている事
業に関するものです。実際の事業実施には当該予算案の国会での可決・
成立が必要となりますので、今後、事業内容等に変更が生じる可能性があ
ることを予め御了承ください。
24
資料9
参考資料1
産業構造審議会
各小委員会の活動
令和4年3月3日
特許庁
第17回知的財産分科会
1
弁理士制度小委員会
➢ 報告書「弁理士制度の見直しの方向性について」
➢ 弁理士制度に関する最近の課題について討議
2
特許制度小委員会
➢ 報告書「ウィズコロナ/ポストコロナ時代における特許制度の在り方」
➢ 知財紛争処理システムの見直しについて議論
3
意匠制度小委員会
➢ 令和三年改正意匠法の改正事項等について議論
4
商標制度小委員会
➢ 報告書「ウィズコロナ/ポストコロナ時代における商標制度の在り方について」
➢ 商標政策の現状と今後の取組等について議論
5
審査品質管理小委員会
➢ 令和3年度の審査品質管理の実施体制・実施状況に関する評価と改
善提案等について議論
6
不正競争防止小委員会
➢ 不正競争防止法の制度課題について討議
7
基本問題小委員会
8
財政点検小委員会
➢ ウィズコロナ/ポストコロナ時代における産業財産権政策の在り方について討議
➢ 報告書「ウィズコロナ/ポストコロナ時代における産業財産権政策の在り方~と
りまとめ~」
➢ 特許特会の財政運営について討議
⚫ 本資料において、各小委員会の開催実績・予定は、令和3年以降について記載しております。
ただし、報告書とりまとめがある場合は、当該とりまとめに向けた開催実績についても記載しております。
1
1.弁理士制度小委員会
開催実績・予定
第15回(令和2年10月30日)
(1)これまでの弁理士制度見直しについて
第18回(令和3年2月4日)
弁理士制度小委員会報告書とりまとめ
(2)平成26年、30年改正弁理士法の
施行状況について
(3)弁理士制度見直しの方向性について
第19回(令和4年3月17日開催予定)
令和3年弁理士制度小委員会報告書及び令和3年
弁理士法改正のフォローアップ
第16回(令和2年11月25日)
(1)中小企業への対応について
(2)農林水産分野への対応について
第17回(令和2年12月21日)
(1)相談しやすい環境の整備について
(2)第三者意見募集制度に関する対応について
(3)弁理士制度小委員会報告書(案)について
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1.弁理士制度小委員会
委員会名簿(令和3年2月時点)
青木 大也
大阪大学大学院法学研究科准教授
蘆立 順美
東北大学大学院法学研究科教授
伊東 正樹
一般社団法人日本知的財産協会副理事長・
株式会社豊田自動織機知的財産部部長・弁理士
委員長
井上 由里子
一橋大学大学院法学研究科教授
相良 由里子
日本弁護士連合会日弁連知的財産センター委員・
中村合同特許法律事務所弁護士・弁理士
櫻井 武志
東京ブラインド工業株式会社代表取締役社長・
東京商工会議所知的財産戦略委員会委員
清水 善廣
日本弁理士会会長・弁理士
髙倉 成男
明治大学法科大学院法務研究科長
南
一般社団法人日本国際知的財産保護協会理事長
孝一
山田 真紀
横浜地方裁判所判事・前東京地方裁判所判事(知的財産権部部総括)
3
2.特許制度小委員会
開催実績
第37回(令和2年4月2日)
(1)「AI・IoT技術の時代にふさわしい特許制度」に関する検討の方向性
(2)知財紛争処理システムの見直しについて
第38回(令和2年5月13日)
(1)特許権の実効的な保護のための関連データの取扱いについて
(2)訂正審判等における通常実施権者の承諾について
第39回(令和2年5月29日)
(1)特許権侵害にかかる損害賠償制度について
(2)差止請求権のあり方について
(3)標準必須特許を巡る異業種間交渉について
第42回(令和2年11月2日)
(1)今後の検討事項の方向性について
(2)訂正審判等における 通常実施権者の承諾の要件の見直し
(3)口頭審理期日における当事者の出頭のオンライン化
(4)当事者本人への証拠の開示制限(アトニーズ・アイズ・オンリー)
第43回(令和2年11月27日)
(1)早期の紛争解決を図る新たな訴訟類型(二段階訴訟制度)
(2)侵害者利益吐き出し型賠償制度
(3)災害等の発生時における割増手数料の取り扱い
第44回(令和2年12月8日)
(1)第三者意見募集制度(日本版アミカスブリーフ制度)
(2)権利回復制度の見直し
(3)模倣品の越境取引に関する規制の必要性について
第45回(令和2年12月23日)
第40回(令和2年6月16日)
AI・IoT技術の時代にふさわしい特許制度の在り方―中間とりまとめ―(案) 報告書案の提示
第41回(令和2年7月9日)
AI・IoT技術の時代にふさわしい特許制度の在り方―中間とりまとめ―
注)別途、審査基準専門委員会WGを令和2年11月、令和3年12月に開催。
第46回(令和3年2月5日)
報告書とりまとめ
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2.特許制度小委員会
委員会名簿(令和3年2月時点)
委員長
淺見 節子
東京理科大学大学院 教授
蘆立 順美
東北大学大学院法学研究科 教授
飯田 香緒里 東京医科歯科大学 副理事
(産学官連携・オープンイノベーション担当)統合研究機構 教授
近藤 健治
一般社団法人 日本知的財産協会 参与
トヨタ自動車株式会社 知的財産部 主査
佐藤 達文
東京地方裁判所知的財産権部総括判事
設樂 隆一
創英国際特許法律事務所 弁護士
杉村 純子
プロメテ国際特許事務所 代表弁理士
高橋 弘史
パナソニック株式会社 知的財産センター IPエクゼクティブエキスパート 弁理士
鈴木 賴子
アステラス製薬株式会社 法務部 知的財産担当部長 弁理士
日本製薬工業協会 知的財産委員会 国内政策TF及び海外政策TF委員
玉井 克哉
東京大学先端科学技術研究センター教授・信州大学経法学部教授
田村 善之
東京大学大学院法学政治学研究科 教授
長澤 健一
キヤノン株式会社 常務執行役員 知的財産法務本部 本部長
日本経済団体連合会 知的財産委員会 企画部会長
中畑 稔
One ip特許業務法人 代表パートナー弁理士
萩野 源次郎 大和合金株式会社 代表取締役社長
松山 智恵
TMI総合法律事務所 弁護士
山本 敬三
京都大学大学院法学研究科長
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3.意匠制度小委員会
開催実績
第12回(令和3年1月18日)
(1)令和元年改正意匠法施行後の状況について
(2)国際意匠登録出願における証明書の提出方法の拡充について
(3)国際意匠登録出願の登録査定謄本送達方法の拡充について
(4)模倣品の越境取引に関する規制の必要性について
(5)その他の法改正事項について
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3.意匠制度小委員会
委員会名簿(令和3年1月時点)
青木 大也
大阪大学大学院法学研究科 准教授
茜ヶ久保 公二
日本弁理士会 副会長
TMI総合法律事務所 弁理士
淺見 節子
東京理科大学大学院 教授
神田 栄美子
一般社団法人日本知的財産協会 意匠委員会 委員長
ヤマハ株式会社知的財産部IPイノベーショングループ 主事
委員長
黒田 薫
阿部・井窪・片山法律事務所 弁護士・弁理士
田村 善之
東京大学大学院法学政治学研究科 教授
林 千晶
株式会社ロフトワーク 代表取締役
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4.商標制度小委員会
開催実績
第6回(令和2年11月6日)
(1)商標政策の現状と今後の取組
(2)財務省関税局プレゼンテーション
(3)模倣品の越境取引に関する商標法上の規制の必要性について
(4)国際商標登録出願に係る手数料納付方法及び登録査定の謄本の送達方法の見直しについて
(5)特許法改正論点の商標法への波及について
第7回(令和2年12月16日)
(1)口頭審理期日における当事者の出頭のオンライン化
(2)報告書案の提示
第8回(令和3年1月28日)
報告書とりまとめ
注)別途、商標審査基準WGを令和4年2月に開催。
8
4.商標制度小委員会
委員会名簿(令和3年1月時点)
委員長
蘆立 順美
東北大学大学院法学研究科教授
井関 涼子
同志社大学法学部教授
江幡 奈歩
阿部・井窪・片山法律事務所 弁護士
大向 尚子
西村あさひ法律事務所 弁護士
國分 隆文
東京地方裁判所 判事
駒田 泰土
上智大学法学部国際関係法学科 教授
齊藤 浩二
株式会社アシックス 知的財産部 部長
島並 良
神戸大学大学院 科学技術イノベーション研究科・法学研究科 教授
高崎 充弘
株式会社エンジニア 代表取締役社長
田村 善之
東京大学大学院法学政治学研究科 教授
林 いづみ
桜坂法律事務所 弁護士
本多 敬子
本多国際特許事務所 弁理士
横山 久芳
学習院大学法学部 教授
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5.審査品質管理小委員会
開催実績・予定
<令和3年度>
第1回(令和3年2月15日)
(1)審査品質管理の実施体制・実施状況に関する評価結果(案)について
(2)審査品質管理の実施体制・実施状況に関する各委員の改善提案について
第2回(令和3年3月22日)
(1)令和2年度審査品質管理小委員会報告書(案)について
<令和3年度>
第1回(令和4年2月21日)
(1)審査品質管理の実施体制・実施状況に関する評価結果(案)について
(2)審査品質管理の実施体制・実施状況に関する各委員の改善提案について
(3)ユーザー評価調査結果から見た審査関連施策について
第2回(令和4年3月18日予定)
(1)令和3年度審査品質管理小委員会報告書(案)について
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5.審査品質管理小委員会
委員会名簿(令和4年2月時点)
委員長
井上 由里子
一橋大学大学院法学研究科 教授
井上 渉
日刊工業新聞社 執行役員編集局長
大須賀 滋
北浜法律事務所 弁護士
近藤 健治
日本国際知的財産保護協会 副会長
菅原 峻一
特許事務所サイクス 弁理士
田中 健次
電気通信大学大学院情報理工学研究科 教授
別宮 智徳
日本知的財産協会 理事長
本多 敬子
本多国際特許事務所 弁理士
村松 由布子
杉村萬国特許法律事務所 弁理士
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6.不正競争防止小委員会
開催実績・予定
第12回(令和3年12月9日)
(1)
第16回(令和4年3月23日)
不正競争防止法に関するこれまでの動きと
(1)
中間整理報告書案について
今回の検討事項について
(2)
「限定提供データに関する指針」の改訂案について
(2) 立証負担の軽減方法について
(3) 「秘密情報の保護ハンドブック」の改訂案について
第13回(令和4年1月11日)
(1)
損害賠償額算定規定の見直しについて
(2) ライセンシー保護制度について
(3)
国際裁判管轄・準拠法について
第14回(令和4年1月31日)
(1) 限定提供データの制度・運用上の課題について
(2)
これまでの議論の振り返りについて
第15回(令和4年2月28日)
(1)
その他課題の検討について
(2)
制度的課題の検討の方向性について
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6.不正競争防止小委員会
委員会名簿(令和4年2月時点)
淺井 俊雄
委員長
岡村
小川
久貝
河野
久道
暁
卓
智子
小松
近藤
末吉
杉村
文子
健治
亙
純子
田村 善之
冨田 珠代
長谷川 正憲
林 いづみ
山本 和彦
日本知的財産協会 副理事長
日本電気株式会社 知的財産本部 上席主幹
京都大学大学院 医学研究科 講師、弁護士
東京地方裁判所 判事
日本商工会議所 常務理事
ソニー株式会社 スタンダード&パートナーシップ部
著作権政策室 著作権政策担当部長
長崎県立大学 副学長
トヨタ自動車株式会社 知的財産部 主査
KTS法律事務所 弁護士
日本弁理士会 会長
プロメテ国際特許事務所 代表弁理士
東京大学大学院法学政治学研究科 教授
日本労働組合総連合会 総合政策推進局長
日本経済団体連合会 知的財産委員会・企画部会 委員
キヤノン株式会社 知的財産法務本部 知的財産渉外第三部長
桜坂法律事務所 弁護士
一橋大学大学院 法学研究科 教授
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7.基本問題小委員会
開催実績
第1回(令和2年10月9日)
ウィズコロナ/ポストコロナ時代における産業財産権政策の在り方
第2回(令和2年11月16日)
ウィズコロナ/ポストコロナ時代における産業財産権政策の在り方
~審査制度の在り方、今後の知財政策・制度改正の方向性~
第3回(令和2年12月4日)
ウィズコロナ/ポストコロナ時代における産業財産権政策の在り方
~特許庁サービスの維持・向上に必要な料金体系の在り方について~
第4回(令和2年12月21日)
(1)ウィズコロナ/ポストコロナ時代における産業財産権政策の在り方~とりまとめ 骨子(案)~
(2)特許庁ミッション・ビジョンについて
第5回(令和3年1月27日)
(1)ウィズコロナ/ポストコロナ時代における産業財産権政策の在り方~とりまとめ(案)~
(2)意見募集結果について
(3)特許庁経営デザインシートのご紹介
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7.基本問題小委員会
委員名簿(令和3年1月時点)
委員長
長岡 貞男
東京経済大学経済学部 教授
萩原 恒昭
日本経済団体連合会 知的財産委員会 企画部会長代行
凸版印刷(株) 法務・知的財産本部 顧問
戸田 裕二
日本知的財産協会 理事長
(株)日立製作所 知的財産本部長
濱田 百合子
日本弁理士会 副会長
特許業務法人栄光特許事務所 所長 弁理士
山内 清行
日本商工会議所 産業政策第一部長
本田 圭子
株式会社東京大学TLO 副社長
鮫島 正洋
弁護士法人 内田・鮫島法律事務所 弁護士
松山 智恵
TMI総合法律事務所 弁護士
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8.財政点検小委員会
開催実績・予定
第3回(令和3年11月5日)
特許特別会計の財政運営について
第4回(令和4年4月~6月開催予定)
特許特別会計の財政運営について
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8.財政点検小委員会
委員名簿(令和3年11月時点)
委員長
梶川 融
太陽有限責任監査法人 代表社員 会長
亀坂 安紀子
青山学院大学経営学部 教授
小林 麻理
早稲田大学政治経済学術院 教授
佐藤 綾子
富山国際大学現代社会学部 教授
滝澤 美帆
学習院大学経済学部 教授
土居 丈朗
慶應義塾大学経済学部 教授
長岡 貞男
東京経済大学経済学部 教授
<オブザーバー>
市川 ルミ
日本弁理士会 副会長
戸田 裕二
日本知的財産協会 参与(日立製作所)
萩原 恒昭
日本経済団体連合会 知的財産委員会 企画部会長代行(凸版印刷)
山内 清行
日本商工会議所 産業政策第一部長
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参考1.知的財産分科会
開催実績
第15回(令和3年3月15日~3月18日)(書面開催)
(1)財政点検小委員会の設置について
(2)実施庁目標の策定及び実績評価について
(3)知的財産制度の中長期的課題について
(4)特許法等の一部を改正する法律案の概要
(5)基本問題小委員会における審議内容について
第16回(令和3年6月28日)
知財エコシステムの自律に向けた中長期的課題
(1)最近の知財動向
(2)企業等における知財戦略の推進
ア.企業における事業戦略と知財戦略
イ.経営層の知財への気づき
(3)IoT 時代の特許制度の在り方
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参考2.産業構造審議会総会
開催実績
第28回(令和3年6月4日)
ウィズコロナ以降の今後の経済産業政策のあり方について等
第29回(令和3年8月23日)
「経済産業政策の新機軸」及び「令和4年度経済産業政策の重点(案)」について
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参考2.産業構造審議会総会
委員名簿(令和3年8月時点)
<本委員>
相原 康伸
日本労働組合総連合会事務局長
秋山 咲恵
株式会社サキコーポレーションファウンダー
石黒 不二代
ネットイヤーグループ株式会社取締役チーフエヴァンジェリスト
伊藤 元重
東京大学名誉 教授/学習院大学国際社会科学部教授
大野 英男
東北大学総長【産業技術環境分科会長】
翁
株式会社日本総合研究所理事長【成長戦略部会長】
百合
小林 健
日本貿易会会長/三菱商事株式会社取締役会長【通商・貿易分科会長】
清家 篤
日本私立学校振興・共済事業団理事長慶應義塾学事顧問【製造産業分科会長】
武田 洋子
株式会社三菱総合研究所シンクタンク部門副部門長
(兼)政策・経済センター長チーフエコノミスト
会長
十倉 雅和
日本経済団体連合会会長/住友化学株式会社代表取締役会長
中室 牧子
慶應義塾大学 総合政策学部 教授
沼上 幹
一橋大学大学院経営管理研究科 教授 【経営力向上部会長】
坂野 尚子
株式会社ノンストレス代表取締役
益
東京工業大学 学長【知的財産分科会長/グリーンイノベーションプロジェクト部会長】
一哉
松原 宏
東京大学大学院総合文化研究科教授【地域経済産業分科会長】
御手洗 瑞子
株式会社気仙沼ニッティング代表取締役社長
室伏 きみ子
お茶の水女子大学名誉教授【2020未来開拓部会長】
柳川 範之
東京大学大学院経済学研究科教授【2050 経済社会構造部会長/商務流通情報分科会長】
横山 明彦
東京大学大学院工学系研究科教授【保安・消費生活用製品安全分科会長】
<臨時委員>
白石 隆
公立大学法人熊本県立大学理事長【総合資源エネルギー調査会会長】
三村 明夫
日本商工会議所会頭【中小企業政策審議会会長】
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特許庁