経済産業省 — 半導体・デジタル産業戦略の今後の方向性（第14回） p.7

キーファクト

• 72%: CMPパッドにおける日本企業のシェア (半導体)
• 51%: CMPスラリーにおける日本企業のシェア (半導体)
• 59%: 高純度洗浄液における日本企業のシェア (半導体)
• 98%: バッファーコート膜・再配線形成材料における日本企業のシェア (半導体)
• 78%: フォトレジストにおける日本企業のシェア (半導体)
• 97%: 硫化カルボニルにおける日本企業のシェア (経済安全保障)
• 92%: フッ素混合ガスにおける日本企業のシェア (半導体)
• 53%: シリコンウエハにおける日本企業のシェア (半導体)

このスライドの図表

• [bar_chart] 素材市場の売上高シェアを国別に示した横棒グラフ（2021年と2023年）

抽出テキスト

前工程素材のシェア変化 半導体・デジタル産業を取り巻く情勢 素材市場において引き続き高いシェアを有している。 一方で、徐々に競争環境が変わりつつある分野もあり、市場動向は注視する必要がある。 素材市場 売上高シェア (2021) 素材市場 売上高シェア (2023) 日本 US Europe 韓国 台湾 中国 その他 高純度洗浄液 49% フォトレジスト 49% 77% CMPスラリー CMPパッド 85% PFCエッチングガス 62% イソプロピルアルコール 56% アンモニアガス 34% 原料ガス・ 薬品リスト 六フッ化タングステン 42% シランガス 16% 塩素系ガス CMP後洗浄液 76% フッ素混合ガス 56% 94% HFCエッチングガス 86% 臭化水素 77% 硫化カルボニル 98% 三フッ化窒素 13% フォトマスク用レジスト N/A シリコンウエハ 52% その他の 材料 フォトマスク 22% ターゲット材 66% バッファーコート膜・再配線形成材料 39% High-k材料 45% メタルプリカーサ 24% Low-k材料 0% 50% 100% 59% 78% 51% 72% 61% 55% 31% 32% 26% 65% 55% 92% 72% 77% 97% 13% 65% 53% 19% 60% 98% 42% 45% N/A 0% 50% 100% Note: ニッタ・デュポンはニッタ株式会社(日)とDuPont (米) の合弁会社でHQは大阪のため日系と分類 (出所)富士経済 「半導体材料市場の現状と将来展望」を元に産業経済省が作成 7